六ホウ化ランタンディスクの説明
六ホウ化ランタンディスク(LaB6ディスク、ホウ化ランタン、LaB6とも呼ばれる)は無機化学物質です。融点2528KのLaB6は耐火性セラミック材料で、水に非常に溶けにくく、加熱(焼成)すると酸化物に変化し、真空中で非常に安定です。化学量論的な試料は強い紫紫色を呈し、ホウ素に富むもの(LaB6.07以上)は青色を呈する。イオン照射によって紫色からエメラルドグリーンに変化する。LaB6ディスクは、転移温度が0.45Kと比較的低い超伝導体である。
ホウ化物は、金属のような導電性を持つ硬くて高融点な物質で、非酸化性の酸には安定だが、強酸化剤や強アルカリでは分解する。ホウ化物は半導体、超伝導体、反磁性体、常磁性体、強磁性体、反強磁性体、タービンブレード、ロケットノズルなどに使用されている。高純度(99.999%)ホウ化ランタン スパッタリング ターゲット ナノパウダー形態も検討可能。 

六ホウ化ランタンディスク仕様
| 製品名 | 六ホウ化ランタン | 構造 | 多結晶 | 
| 記号 | LaB6 | 熱伝導率  | 47 W/mK (20℃) | 
| Cas いいえ。 | 12008-21-8 | 熱膨張  | 6.2 10-6K-1(20-900℃) | 
| 原子質量 | 203.78 g/mol | 電気抵抗 | 約15μΩcm(20) | 
| 密度  | 4.72g/cm3 | 導電性 | 6.65x104S/cm (20℃) | 
| 融点 | 2528 K | 電流密度  | 150 A/cm2 (1950℃) | 
| 硬度 | 87.5 RA | 電子放射率 | 2.6 eV | 
| 曲げ強度 (σ) | 200 Mpa | 破壊靭性 (Kic) | 3.0MN/m3/2 | 
六ホウ化ランタンディスクの用途
* 熱電子放出(陰極)
* プラズマエンハンストコーティング(PECVD)用プラズマソース
* 真空電子ビーム溶接機
* 電子ビーム表面改質装置
* 電子ビーム露光装置
* 透過型電子顕微鏡
* 走査型電子顕微鏡
* 表面分析装置
* 放射線治療装置
 
 
六ホウ化ランタンディスクの梱包
SAMsのLaB6セラミックスは、保管中や輸送中の損傷を最小限に抑え、製品の品質を元の状態で維持するため、慎重に取り扱われています。
 
 
他のセラミック材料についても試作サービスをご利用いただけます。
アルミナ
窒化アルミニウム
窒化ホウ素
炭化ケイ素
窒化ケイ素
ジルコニア
 
  
 
よくある質問
- LaB₆ディスクは何に使用されていますか?
SEM、TEM、X線装置の電子放出源。
プラズマおよび真空装置のターゲット材または電極ディスク
高温または超高真空環境用の熱電子エミッターまたはヒーターエレメント。
- LaB₆の主な利点は何ですか?
低い仕事関数(~2.6~2.8eV)→効率的な電子放出。
高融点(~2210℃)→熱安定性。
高い導電率と硬度(モース硬度~9.5)。
高真空または超高真空での長寿命。
タングステンエミッタよりも優れた輝度と低消費電力。
- 取り扱いおよび保管
酸化を防ぐため、乾燥雰囲気または不活性雰囲気で保管してください。
表面の湿気や指紋を避けてください。
LaB₆は硬いがもろい。
使用前にアルコールまたは真空と互換性のある溶剤で洗浄してください。
最高のパフォーマンスと寿命を得るためには、真空(<10-⁶ Torr)で使用してください。
             
            
            
                仕様
                
| 製品紹介 | 六ホウ化ランタン | 構造 | 多結晶 | 
| 記号 | LaB6 | 熱伝導率  | 47 W/mK (20℃) | 
| Cas いいえ。 | 12008-21-8 | 熱膨張  | 6.2 10-6K-1(20-900℃) | 
| 原子質量 | 203.78 g/mol | 電気抵抗 | 約15μΩcm(20) | 
| 密度  | 4.72g/cm3 | 導電性 | 6.65x104S/cm (20℃) | 
| 融点 | 2528 K | 電流密度  | 150 A/cm2 (1950℃) | 
| 硬度 | 87.5 RA | 電子放射率 | 2.6 eV | 
| 曲げ強度 (σ) | 200 Mpa | 破壊靭性 (Kic) | 3.0MN/m3/2 | 
*上記の製品情報は理論データに基づくものであり、参考値です。実際の仕様とは異なる場合があります。