ビスマストリス(2,2,6,6-テトラメチル-3,5-ヘプタンジオネート) 説明:
ビスマス トリス(2,2,6,6-テトラメチル-3,5-ヘプタンジオネート)は、 しばしばビスマスTTMHDと呼ばれ、ビスマスと3つの2,2,6,6-テトラメチル-3,5-ヘプタンジオネート(TTMHD)配位子との配位錯体である。この化合物は高純度かつ安定であることが特徴で、ビスマス系材料の成膜に理想的な前駆体である。この化合物は有機溶媒に可溶であるため、様々な化学気相成長(CVD)や原子層堆積(ALD)プロセスでの使用が容易である。その高い揮発性と高温での熱安定性により、正確な組成と構造特性を持つ薄膜の制御蒸着が可能になる。ビスマスTTMHDは、高度な電子部品、光学デバイス、触媒の製造に使用され、そのユニークな特性が最終材料の性能や機能性に貢献している。
ビスマス トリス(2,2,6,6-テトラメチル-3,5-ヘプタンジオネート)の仕様:
| 公称化学組成 | C33H57BiO6 | 
| CAS番号 | 142617-53-6 | 
| 純度 | 99% | 
| 外観 | 白色粉末 | 
| 分子量 | 758.78 | 
| 融点 | 89-116 °C | 
| 沸点 | 150°C | 
| InChIキー | ZNHBPQSSVCRFST-LWTKGLMZSA-K | 
ビスマス トリス(2,2,6,6-テトラメチル-3,5-ヘプタンジオネート) 用途:
1.薄膜蒸着:化学気相成長(CVD)および原子層堆積(ALD)プロセスの前駆体として使用され、エレクトロニクスおよびオプトエレクトロニクス用の高品質なビスマスベースの薄膜を形成する。
2.半導体材料:熱電材料や高効率センサーなど、ビスマスベースの半導体および電子デバイスの製造に使用される。
3.光学コーティング:材料特性の精密な制御が必要な光学コーティングやフォトニックデバイスの製造に使用される。
4.触媒:ビスマスの安定性と反応性を利用し、様々な化学反応のためのビスマス系触媒の開発に応用される。
5.先端材料研究:先端エレクトロニクス、フォトニクス、エネルギー技術への応用が期待されるビスマス含有新材料の探索研究に使用される。
ビスマストリス(2,2,6,6-テトラメチル-3,5-ヘプタンジオネート)の安全性情報:
| シグナル | 
 | 
| シグナルワード | 警告 | 
| 危険状態 | H315-H319-H335 | 
| WGK ドイツ | 3 | 
ビスマス トリス(2,2,6,6-テトラメチル-3,5-ヘプタンジオネート) の包装:
当社のビスマストリス(2,2,6,6-テトラメチル-3,5-ヘプタンジオネート)は、製品の品質を元の状態で維持するために、保管中および輸送中に慎重に取り扱われます。
ビスマス トリス(2,2,6,6-テトラメチル-3,5-ヘプタンジオネート) よくある質問(FAQ)
Q1:ビスマストリス(2,2,6,6-テトラメチル-3,5-ヘプタンジオネート)の主な用途は何ですか?
A1: ビスマストリス(2,2,6,6-テトラメチル-3,5-ヘプタンジオネート)は、主に電子、光学、触媒用途のビスマスベースの薄膜や材料の成膜用前駆体として使用されます。
Q2: ビスマストリス(2,2,6,6-テトラメチル-3,5-ヘプタンジオネート)の保存条件は?
A2:ビスマストリス(2,2,6,6-テトラメチル-3,5-ヘプタンジオネート)は、直射日光や湿気を避け、涼しく乾燥した場所に保管してください。また、劣化を防ぐため、密栓して保管してください。
Q3:ビスマストリス(2,2,6,6-テトラメチル-3,5-ヘプタンジオネート)と相性の良い溶媒は何ですか?
A3:ビスマストリス(2,2,6,6-テトラメチル-3,5-ヘプタンジオネート)は、ヘキサン、トルエン、クロロホルムなどの有機溶媒に溶解します。具体的な溶媒適合性については、ご使用の用途に応じてご確認ください。
             
            
            
                仕様
                
| 化学名 | C33H57BiO6 | 
| CAS番号 | 142617-53-6 | 
| 純度 | 99% | 
| 外観 | 白色粉末 | 
| 分子量 | 758.78 | 
| 融点 | 89-116 °C | 
| 沸点 | 150°C | 
| InChIキー | ZNHBPQSSVCRFST-LWTKGLMZSA-K | 
*上記の製品情報は理論値に基づくもので、参考用です。実際の仕様は異なる場合があります。