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GR5855 SiO2基板上のCVD単層グラフェン

カタログ番号 GR5855
サイズ 5cm*5cm
素材 SiO2/銅
単層コンテンツ >99%

SiO2基板上の単層グラフェンとは、化学気相成長法を用いて銅表面上に炭素原子を六角形格子に配列させた単層グラフェンを合成する特定の方法を指します。 Stanford Advanced Materials (SAM)は、単層グラフェンを 高純度かつ競争力のある価格で提供することに長けています。

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