ハフニウムがジルコニウムより小さい理由
Hfのイオン半径はZrのイオン半径とほぼ同じであるため、HfとZrの地球化学的性質は非常によく似ている。すべてのZr鉱物はHfを含んでおり、純粋なHf鉱物はあまり知られていない。
鉱物中のHf濃度がZrを超えることは、ある種のソートベータイトを除いてほとんどない。ジルコン、SiO4、バデレアイトZrO2がHfの最も重要な供給源であり、通常2%まで含まれる。しかし、ノルウェーのジルコン鉱物の中には20%のHfを含むものもある。ハフニウムは主に親石性で、Hfイオンとして酸化物やケイ酸塩中に存在する。
ハフニウムは、Zr鉱化のパスファインダーとして使用される可能性がある。ハフニウムの値が高い場合は、フェルシックの岩石、特に貫入岩塊の存在を示す。Hf鉱物は抵抗性であるため、天然水中のHf濃度は制限される。硫酸塩、フッ化物、塩化物との錯体は水溶液への溶解性が低いが、天然有機物との錯体形成により、天然淡水中のHf濃度が上昇する可能性がある。ハフニウムは通常、天然水中に0.1 µg l-1未満の濃度で存在する。
Hfの主な人為起源源は下水である。ハフニウムは、電球のフィラメント、X線陰極管、原子炉制御棒の製造、Ti、Nb、Ta、Feとの合金、セラミック産業で使用されている。1960年代から70年代にかけて行われたいくつかの調査では、産業活動が盛んな地域ではHf濃度が上昇しないことが実証されており、Hfの供給源は人為的なものよりも地質学的なものの方が重要であるようだ。
ハフニウムの生物学的機能は知られていない。毒性に関する情報はほとんどないが、一般に毒性は低いと見なされている。環境への悪影響は報告されていない。しかし、Hfの人体への影響については十分なデータがないため、潜在的な毒性があるとみなすべきである。
酸化ハフニウム（ハフニア）は、高密度のロジック・デバイスやメモリ・デバイスを製造するために、標準的なゲート誘電体であるSiO2の代替として使用される高誘電体として、ここ数十年で広く研究されてきた。
