950C CSS/RTP炉 OTF-1200X-RTP-II-CSS-300 の説明
950℃CSS/RTP炉 OTF-1200X-RTP-II-CSS-300は、直径12インチまでのウェハーへの近接昇華(CSS)膜コーティング用に特別に設計された最先端の急速熱処理(RTP)炉です。この炉の最高使用温度は950°Cで、毎秒最大20°Cの急速加熱が可能な2つのハロゲンヒーター群（上部と下部）を備えています。上部試料ホルダーは回転可能で、1～10RPMの速度で均一なフィルムコーティングが可能です。
この加熱炉は、テルル化カドミウム（CdTe）、硫化物、ペロブスカイトなどの次世代太陽電池用薄膜の開発に特に有効です。また、12インチ半導体ウェハーのアニールにも適しています。
950℃CSS・RTP炉 OTF-1200X-RTP-II-CSS-300の仕様
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特徴
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- 内径20インチのステンレス製真空チャンバーは、ターボポンプにより10^-5 torrの真空度を達成。
- 熱分布を最適化するため、チャンバー内に戦略的に配置された2枚の12インチ赤外線（IR）加熱プレート。
- 0.1℃以内の温度精度を保証するユーロサーム精密温度コントローラー。
- すべての処理パラメーターを包括的に制御できるタッチスクリーン式コンピューター。
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基本パラメーター
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- 最高温度加熱温度：950
- 最大加熱温度2つのヒーター間の温度差: ≤ 300
- マックス。加熱速度8℃/s
- マックス。冷却速度：<20℃/秒
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電源
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208 - 240VAC、三相、50/60 Hz
60kw
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真空チャンバー
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- チャンバー寸法内径500mm x 高さ460mm
- 直径60mmの石英窓が2つあり、観察が容易。
- 高真空下で蒸発源を遮断するため、気密性の高いスライディングバッフルを1枚内蔵しています。
- 精密防錆デジタル真空計を標準装備し、正確な真空測定を保証します。
- オプションの真空ポンプ：ターボポンプによる10-5torrまたは機械式ポンプによる10-2torr
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ヒーターとサンプルホルダー
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- 2つのIRヒーターがチャンバーの上部と下部にあり、ギャップは2～25mmまで調整可能です。
- ヒーターはステンレス製で、保温のため水冷ジャケットが付いています。
- 12インチ径の円形ウェハーホルダーは、基板を保持するために上部ヒーターに組み込まれています。
- グラファイトプレートはIRヒーターの上部に置かれ、加熱をより均一にします。
- トップサンプルホルダーは1～10RPMの範囲で回転可能。
- ヒーター冷却用に58L/分の循環式ウォーターチラーが付属しています。
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制御システム
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- 24セグメントプログラム可能な2台のユーロサーム3000デジタル温度コントローラーにより、+/-0.1℃の精度で上部ヒーターと下部ヒーターを独立制御。
- 温度プロファイル、真空圧、回転数、回転速度、フランジの持ち上げなど、すべての操作はPLCを介してタッチスクリーンのコンピューターで制御されます。
- コンピューターは、温度と真空のプロファイルを表示し、あらかじめ設定された10種類の処理プログラムを表示することができます。
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正味重量
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~500 kg
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寸法
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長さ1450 X 幅1250 X 高さ2100 mm
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保証
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- 1年間の限定保証と生涯サポート
- 注意：腐食性ガスや酸性ガスの使用に起因する損害は、SAM1年限定保証の対象外となります。
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認証
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- CE認証
- NRTLまたはCSA認証は別途費用にて取得可能です。
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950C CSSおよびRTP炉 OTF-1200X-RTP-II-CSS-300 アプリケーション
950C CSS・RTP炉 OTF-1200X-RTP-II-CSS-300は、テルル化カドミウム（CdTe）、硫化物、ペロブスカイトなどの次世代太陽電池用薄膜の開発に特に有効です。また、12インチ半導体ウェハーのアニールにも適しています。
950C CSSおよびRTP炉 OTF-1200X-RTP-II-CSS-300 パッケージング
950C CSS・RTP炉 OTF-1200X-RTP-II-CSS-300は 、製品の品質を損なわないよう、保管・輸送時に細心の注意を払っています。
