タンタルディスク(Taディスク) UNS R05200, Dia.4インチ 説明
ASTM B708の厳しい要件を満たすように製造されたタンタルディスク（Taディスク）、グレードUNS R05200は、要求の厳しい用途に最適です。直径が4インチで、融点が3,000℃を超えるため、耐食性に優れ、過酷な環境に最適です。この高性能金属はまた、優れた延性を誇り、構造的完全性を維持しながら容易に成形・加工することができる。
生体適合性と化学的不活性が認められているタンタルは、医療機器、航空宇宙用途、化学処理システムで頻繁に使用されています。各ディスクは、最適な純度、均一な厚み、機械的安定性を確保するために、厳格な品質管理チェックを受けます。当社の卓越性へのコミットメントは、お客様のプロジェクトが最も厳しい条件下でも信頼できる性能から利益を得ることを保証します。
タンタルディスク（Taディスク）UNS R05200、Dia.4インチ 用途
タンタルディスク（Taディスク）UNS R05200、Dia.4インチは、卓越した耐食性、優れた熱伝導性、優れた機械的特性で知られ、様々な産業で使用されています。その延性と高融点のユニークな組み合わせにより、要求の厳しい環境で求められる材料となっています。ここでは、エレクトロニクス、化学処理、航空宇宙分野におけるタンタルの主な用途を紹介します。
1.エレクトロニクス用途
- コンデンサー部品：タンタルディスクは電解コンデンサーの主要部品として使用され、優れた体積効率と高温下での安定した性能を提供します。
- 半導体装置タンタルの優れた熱伝導性と耐薬品性は、スパッタリングターゲットやその他の半導体製造装置に最適です。
2.化学処理用途
- 耐食リアクタータンタルは広範囲の酸と塩基に対して不活性であるため、化学反応器環境における長期信頼性を保証します。
- 保護ライナー: パイプや容器のライナーにタンタルを使用することで、腐食を最小限に抑え、部品の寿命を延ばし、メンテナンスコストを削減します。
3.航空宇宙用途
- 耐熱部品：タンタルの高い融点と高温での強度は、燃焼室部品に適しています。
- 構造要素：タンタルの延性と耐熱衝撃性は、過酷な条件下での重要な航空宇宙構造物の耐久性を向上させます。
タンタルディスク(Taディスク) UNS R05200、Dia.4インチパッケージ
タンタルディスク（UNS R05200）、Dia.4インチは、真空包装で注意深く密封され、さらに純度と表面の完全性を維持するために耐衝撃性材料で保護されています。包装は、サイズ、ラベル、バッチ量など完全にカスタマイズすることができ、生産から最終使用までの安全な配送と容易な識別を保証します。
包装真空シール、木箱、またはカスタマイズ。
タンタルディスク（Taディスク）UNS R05200、Dia.4インチ FAQ
Q1: タンタルディスク（Taディスク）UNS R05200、直径4インチの主な材料特性は何ですか？4インチ
A1: タンタルR05200は、その保護酸化膜により、特に酸性環境において優れた耐食性を示します。融点が約2996℃と高く、極端な温度下でも強度と安定性を維持できます。タンタルの密度は約16.6g/cm³で、構造的完全性に優れています。また、タンタルは非常に延性が高いため、機械的特性を損なうことなく曲げたり成形したりすることが容易です。
Q2: タンタル製品はどのように加工できますか？
A2: タンタルディスクは、精密機械加工、深絞り加工、プレス加工など、様々な方法で加工することができます。この材料固有の延性により、冷間加工でも割れを最小限に抑えることができます。また、寸法安定性を維持するために応力緩和焼鈍を施すこともできます。さらに、タングステン-不活性ガス(TIG)溶接は、信頼性が高く、汚染のない接合を提供します。タンタルは融点が高いため、鍛造や圧延を効果的に行うには、特殊な炉環境と適切な工具が不可欠です。
Q3: タンタルディスク（Taディスク）UNS R05200, Dia.4インチ
A3：タンタルディスクの代表的な品質規格には、ASTM B708があり、これは錬タンタル製品の化学組成と公差を概説しています。製造業者は、一貫した生産とトレーサビリティを確保するために、ISO9001認証を維持することがよくあります。ディスクが圧力容器に使用される場合は、ASMEボイラーおよび圧力容器コードへの準拠も関連する場合があります。化学的純度、機械的特性、および非破壊検査結果を検証する材料証明書は、顧客の仕様を満たすために一般的に提供されます。
関連情報
1.材料特性と利点
UNS R05200グレードのタンタルディスク（Taディスク）は、その優れた化学的安定性と2,900℃を超える高融点で際立っています。その高い耐熱性により、ディスクは極端な温度下でも構造的完全性を維持し、高温真空環境における理想的な部品となっています。ディスクの直径は4インチで、表面積と厚みの実用的なバランスを実現し、耐久性と高度な装置への組み込みやすさを両立させている。
耐食性の面では、UNS R05200は過酷な化学薬品、酸、アルカリに耐えることが広く認められています。化学処理、半導体製造、その他先端分野のいずれにおいても、このタンタルディスクの安定した性質は、安定した性能と最小限のメンテナンスの必要性を提供します。
2.製造工程
UNS R05200タンタルディスクは、鍛造と圧延工程を経て、直径4インチの形状に成形されます。タンタル固有の加工硬化特性により、金属の均一な微細構造を損なうことなく必要な厚みを得るためには、特殊な技術と制御された加熱サイクルが必要です。 各工程は、寸法精度を維持するために注意深く監視され、確実に丸く平らなディスクにつながります。
鍛造後、精密機械加工工程がディスクの表面を磨き上げ、各バッチの一貫性を確保します。独自の焼きなまし方法は、内部応力を除去し、金属の優れた機械的特性を維持するのに役立ちます。このような細部への配慮により、すべてのタンタルディスクは、高性能アプリケーションで一貫した結果を提供しながら、業界の厳しい要件を満たすことが保証されます。
Write for Us
Converters & Calculators
