ニッケルクロム(Ni/Cr)蒸着材料の説明
ニッケル/クロム(Ni/Cr)蒸着材料は60Ni/40Cr WT%の高純度ニッケルとクロムを使用しており、電子ビーム蒸着と熱蒸着に使用できます。スタンフォード・アドバンスト・マテリアルズ（SAM）は、半導体、化学気相成長（CVD）、物理気相成長（PVD）ディスプレイおよび光学用途に使用される高品質の高純度蒸発材料の製造を専門としています。当社のエンジニアリング、製造、分析チームのユニークな相乗効果により、業界をリードする蒸発材料を製造することができます。
ニッケルクロム（Ni/Cr）蒸着材料の特徴
高純度：当社のNi/Cr蒸着材料は、高純度に焦点を当てて製造されており、不純物を最小限に抑え、卓越した薄膜品質を保証します。
正確な組成：ニッケル(Ni)とクロム(Cr)の組成比は、特定の蒸着要件を満たすように精密に制御されており、一貫した結果を保証します。
均一な膜厚：薄膜厚さの優れた制御を実現し、多くの用途で重要な要素である、広い基板領域にわたる均一性を保証します。
卓越した熱安定性：Ni/Cr材料は、成膜中に顕著な熱安定性を示し、パーティクルの排出を防ぎ、欠陥のない膜のスムーズな形成を保証します。
多様な用途：エレクトロニクス、光学、半導体製造、表面技術など、幅広い用途に適しています。
カスタムソリューション：Ni/Cr蒸発材料をお客様独自の仕様や用途ニーズに合わせてカスタマイズするオプションを提供しています。
ニッケルクロム（Ni/Cr）蒸着材料の仕様：
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材料
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ニッケルクロム
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密度
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7.19-8.90 g/cm3
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融点
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1455-1907℃
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熱伝導率
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90.9-93.9 W/m-K
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電気伝導率
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7.9-14.3×10^4 S/m
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純度
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99.9%
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ニッケルクロム（Ni/Cr）蒸着材料の用途：
当社のニッケルクロム蒸着材料は、以下のような様々なハイテク産業で使用されています：
半導体製造：半導体製造：集積回路、太陽光発電、マイクロエレクトロニクスの薄膜蒸着を含む半導体製造プロセスに最適です。
光学コーティング：光学、フォトニクス、画像処理用途のレンズ、ミラー、フィルター用の光学コーティングに使用される。
エレクトロニクス抵抗器、接点、コネクターなどの電子・電気部品に応用され、導電性と耐久性を向上させる。
表面工学：さまざまなエンジニアリング用途において、表面特性の改質、耐摩耗性の向上、摩擦の低減、腐食保護の付与に使用される。
研究開発：薄膜蒸着、材料科学研究、学術研究を含む研究開発プロジェクトに不可欠。
ニッケルクロム蒸着材料の包装
当社のニッケルクロム（Ni/Cr）蒸着材料は、効率的な識別と品質管理を確実にするために、明確にタグ付けされ、外部にラベル付けされています。また、保管中や輸送中の損傷を避けるため、細心の注意を払っています。
当社のニッケルクロム蒸発材料を選ぶ理由
品質保証：当社のNi/Cr蒸発材料は、業界標準を満たし、上回るために厳格な品質管理プロセスを受けています。
技術的専門知識：薄膜蒸着技術に関する豊富な知識を持つ専門家チームに支えられ、お客様の特定の用途に合わせた献身的な技術サポートとガイダンスを提供します。
カスタムソリューション：ユニークなアプリケーションにはユニークなソリューションが必要です。当社は、お客様の特定の薄膜蒸着要件を満たすカスタマイズ可能なNi/Cr蒸着材料を提供し、精度と性能を保証します。
