酸化タンタル スパッタリング ターゲット 説明
酸化タンタル スパッタリング ターゲットは、光学コーティング、半導体、保護層の薄膜蒸着に広く使用されている高純度材料です。優れた誘電特性、高屈折率、優れた耐食性で知られる酸化タンタルは、高度なコーティング用途で好まれています。
- 高純度と安定性 - 不純物を最小限に抑え、均一な成膜を実現。
- 優れた誘電特性 - 半導体用途のコンデンサや絶縁層に最適。
- 高屈折率 - 反射防止や高精度用途の光学コーティングによく使用されます。
- 強い耐食性と耐摩耗性 - 過酷な環境下での耐久性を向上させます。
酸化タンタルスパッタリング ターゲット仕様
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化合物式
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Ta2O5
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分子量
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441.89
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外観
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白色固体
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融点
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1,872℃
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密度
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8.2g/cm3
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サイズ
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Dia.: 1.0″、2.0″、3.0″、4.0″、5.0″、6.0″の
厚さ: 0.125″、0.250″、カスタマイズされる
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酸化タンタルスパッタリング ターゲット用途
- 半導体 - 薄膜キャパシタ、ゲート絶縁膜、高誘電率材料に使用されます。
- 光学コーティング - 反射防止コーティング、レーザー光学部品、精密光学フィルターに最適です。
- 保護膜 - 電子・産業用途の耐摩耗性、耐酸化性を向上させます。
酸化タンタル スパッタリング ターゲット パッキング
当社の酸化タンタル スパッタリング ターゲットは、製品の品質を元の状態で維持するために、保管中および輸送中に慎重に取り扱われます。
よくある質問
Q1: 酸化タンタル スパッタリング ターゲットとは何ですか？
酸化タンタル（Ta₂O₅）スパッタリングターゲットは、物理蒸着（PVD）やマグネトロンスパッタリングなどの薄膜蒸着プロセスで使用される高純度材料です。優れた誘電特性と高屈折率により、半導体、光学コーティング、保護層などによく応用されています。
Q2: 酸化タンタルの主な特性は何ですか？
- 高誘電率 - コンデンサーや絶縁層に適しています。
- 高屈折率 - レンズやフィルターの光学コーティングに最適です。
- 優れた耐食性 - 過酷な環境下での耐久性を高めます。
- 優れた熱的・化学的安定性 - 高温用途で安定した性能を発揮します。
Q3: 酸化タンタルスパッタリング・ターゲットの主な用途は？
- 半導体産業 - 薄膜キャパシタ、ゲート絶縁膜、メモリ記憶装置に使用されます。
- 光学コーティング - 反射防止コーティング、レーザー光学、高精度光学フィルターに使用されます。
- 保護膜 - 電子機器や工業用途における耐摩耗性や耐酸化性を向上させます。
Q4: 酸化タンタルスパッタリング・ターゲットにはバッキングプレートが含まれていますか？
酸化タンタル（Ta₂O₅）スパッタリングターゲットには自動的にバッキングプレートは付属していませんが、特に壊れやすいターゲットやセラミックターゲットにはバッキングプレートの使用を強く推奨します。
