アルミニウム錫銅ターゲット(AlSnCuターゲット)の説明
アルミニウム錫銅ターゲット(AlSnCuターゲット )は、軽量特性、導電性、機械的適応性のユニークなバランスを示す多元素スパッタリング材料です。アルミニウムを主成分とし、錫と銅の添加を制御したこの合金は、アルミニウムの低密度と耐食性の恩恵を受け、銅は材料の電気伝導性と熱伝導性を高めます。錫は潤滑性と加工性の向上、耐摩耗性と耐かじり性の向上に寄与します。ターゲットは通常、高度な合金化と鋳造技術によって達成された均質な微細構造を示し、安定したスパッタリング挙動と均一な膜組成を保証する。また、適度な融点と様々な基材との良好な熱膨張適合性を維持し、制御された温度環境下での使用に適している。これらの要素の組み合わせにより、低い内部応力、良好な接合特性、安定した表面形態を持つターゲット材料となり、長時間のスパッタリングプロセスにおいて信頼性の高い性能を保証します。
アルミニウム錫銅ターゲット(AlSnCuターゲット)仕様
化学組成
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Al, Sn, Cu
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純度
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99.9%
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形状
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平面ディスク
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*上記製品情報は理論値です。具体的なご要望、詳細につきましては、お問い合わせください。
サイズ
厚さ
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3mm±0.5mm(カスタマイズ可能)
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直径
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50 mm±1 mm(カスタマイズ可能)
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アルミ錫銅ターゲット(AlSnCuターゲット)用途
- 半導体相互接続:このターゲットは、マイクロエレクトロニクスデバイスの密着性と信頼性を向上させた導電層を成膜するために使用され、アルミニウムは低重量を提供し、銅は導電性を向上させ、錫ははんだ付け性を向上させます。
- ディスプレイ技術:AlSnCu膜は、薄膜トランジスタ(TFT)およびLCDやOLEDの相互接続に適用され、良好なパターニング特性と表面均一性を提供します。
- フレキシブルエレクトロニクス:AlSnCuは、その延性とポリマー基板との良好な接合性により、ウェアラブルまたは折り曲げ可能な電子回路での使用に適しています。
- プリント基板 (PCB):高密度PCBのメタライゼーション層用スパッタリングプロセスで使用され、特に強力な機械的接合と熱管理が必要な用途に適している。
- 自動車用エレクトロニクス酸化や熱サイクルに対する耐性が重要な、過酷な環境におけるセンサーモジュールや制御ユニットに最適です。
- エネルギー貯蔵デバイス:低質量で高い導電性が要求される集電体や電極膜として、先進的なバッテリーやキャパシター技術に採用されている。
アルミニウム錫銅ターゲット(AlSnCuターゲット)包装
当社の製品は、材料の寸法に基づいて様々なサイズのカスタマイズされたカートンに梱包されています。小さな商品はPP箱にしっかりと梱包され、大きな商品は特注の木箱に入れられます。包装のカスタマイズを厳守し、適切な緩衝材を使用して、輸送中に最適な保護を提供します。

梱包カートン、木箱、またはカスタマイズ。
製造工程
1.簡単な製造工程の流れ

2.試験方法
- 化学成分分析 - GDMSやXRFなどの技術を用いて検証し、純度要件への適合を確認する。
- 機械的特性試験 - 材料性能を評価するための引張強さ、降伏強さ、伸び試験を含む。
- 寸法検査 - 厚さ、幅、長さを測定し、指定された公差に準拠していることを確認します。
- 表面品質検査 - 目視および超音波検査により、傷、亀裂、介在物などの欠陥をチェックします。
- 硬度検査 - 材料の硬度を測定し、均一性と機械的信頼性を確認します。
アルミニウム錫銅ターゲット(AlSnCuターゲット)に関するFAQ
Q1: どのような純度のものがありますか?
A1: SAMは、高精度の薄膜蒸着アプリケーションに適した99.99%以上の純度のAlSnCuターゲットを提供しています。
Q2: このターゲットは、DCスパッタリングシステムとRFスパッタリングシステムの両方で使用できますか?
A2: はい、AlSnCuターゲットはDCスパッタリングとRFスパッタリングの両方に対応しています。
Q3: どのようなスパッタリング条件を推奨しますか?
A3: 標準的な作業ガスには高純度アルゴンが含まれます。スパッタリングパワー、圧力、温度設定は、チャンバー設計とターゲットサイズに基づいて最適化する必要があります。
競合製品との性能比較表
AlSnCuターゲットvsCuターゲットvsAlSiターゲット:
特性
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AlSnCuターゲット
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Cuターゲット
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AlSiターゲット
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組成
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Al + Sn + Cu
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純Cu
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Al + Si
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磁気特性
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非磁性
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非磁性
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非磁性
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耐食性
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良好
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良好
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良好
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熱安定性
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中程度
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高い
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中程度
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耐摩耗性
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良好
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中程度
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中程度
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導電性
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中程度
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良好
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中程度
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密度
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~7.3 g/cm³
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~8.96 g/cm³
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~2.7 g/cm³
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融点
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~230°C - 280°C
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~1,085°C
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~577°C
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用途
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エレクトロニクス、コーティング、バッテリー
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導体、エレクトロニクス、コーティング
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半導体、太陽電池、コーティング
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関連情報
- 原材料-アルミニウム
アルミニウムは、原子番号13の軽量で銀白色の金属である。優れた耐食性、高い熱伝導性、電気伝導性、低い密度(2.7g/cm³)で知られ、最小限の重量で構造的完全性を必要とする用途に最適です。アルミニウムは、さらなる酸化から保護する天然の酸化皮膜を形成し、反射率が高く延性があるため、加工や他の金属との合金が容易である。
- 原材料-スズ
スズは、原子番号50の軟質で可鍛性の遷移後の金属である。融点が比較的低く(231.9℃)、成形性に優れ、特に水や酸性環境に対する耐食性が高い。スズは、潤滑性、はんだ付け性を向上させ、機械システムの摩耗を減らすために、表面コーティングや合金化に広く使用されている。薄膜では、スズは延性や濡れ挙動にも影響を与える。
- 原材料- 銅
銅は原子番号29の赤みがかった金色の金属で、銀に次ぐ卓越した電気伝導性と熱伝導性が評価されています。高い延性、優れた展性、様々な環境下での腐食に対する強い耐性を持っています。銅は電子機器、電気配線、メタライゼーション・プロセスにおいて重要な材料であり、導電性を著しく低下させることなく機械的強度を高めるために合金化されることが多い。
仕様
化学成分
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Al, Sn, Cu
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純度
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99.9%
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形状
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平面ディスク
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*上記製品情報は理論値です。具体的なご要望、詳細につきましては、お問い合わせください。
サイズ
厚さ
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3mm±0.5mm(カスタマイズ可能)
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直径
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50 mm±1 mm(カスタマイズ可能)
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