ヘキサフルオロゲルマン酸アンモニウム 説明
ヘキサフルオロゲルマン酸アンモニウム粉末(CAS番号16962-47-3)は、式(NH₄₂GeF₆で表される白色の結晶性無機化合物です。主にゲルマニウム系材料の合成、光学コーティング、特殊ガラス製造に使用される。フッ化物を含むため、半導体製造のエッチング剤や二酸化ゲルマニウム(GeO₂)製造の前駆体としても使用される。吸湿性があり、分解時に有毒なフッ化水素(HF)を放出する可能性があるため、適切な取り扱いが必要である。
六フッ化ゲルマニウム酸アンモニウムの仕様
物理化学情報
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密度
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2.564 g/cm3
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融点
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380 °C
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水溶性
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可溶性
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InChIキー
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NDVZEQNPAUIMP-UFFFAOYSA-P
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ヘキサフルオロゲルマ ン酸アンモニウム 用途
ヘキサフルオロゲルマン酸アンモニウムは、半導体材料の薄膜蒸着などの用途向けのアンモニア化(高pH)ゲルマニウム源です。
ヘキサフルオロゲルマン酸アンモニウム 安全性情報
記号
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GHS07
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シグナルワード
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警告
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危険有害性情報
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H302 + H312 + H332-H315-H319-H335
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注意喚起語
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P261-P280-P305+P351+P338
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安全に関する記述
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26-37/39
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輸送情報
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すべての輸送手段に対してNONH
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WGK ドイツ
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3
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ヘキサフルオロゲルマン酸アンモニウムの用途
二酸化ゲルマニウム(GeO₂)製造 - 光ファイバー、赤外レンズ、蛍光体に使用される高純度酸化ゲルマニウムの合成において、重要な前駆体として作用する。
半導体産業 - ゲルマニウムベースの半導体およびマイクロエレクトロニクスの製造において、エッチング剤およびドーパント源として使用される。
特殊ガラス&コーティング - レンズ、プリズム、光学デバイス用の高屈折率および赤外透明性を持つゲルマニウム含有ガラスの製造に使用されます。
化学気相成長法(CVD) - 先端エレクトロニクスやオプトエレクトロニクスにおける薄膜堆積用のフッ素含有ゲルマニウム源を提供。
パッキング
弊社のヘキサフルオロゲルマン酸アンモニウム粉末は、製品の品質を元の状態で維持するため、保管中および輸送中は慎重に取り扱われます。
よくある質問
ヘキサフルオロゲルマン酸アンモニウムは水に溶けますか?
回答はい、水に溶け、反応性のフッ化物イオンを放出します。
ヘキサフルオロゲルマン酸アンモニウムは危険ですか?
回答:はい:はい、有毒であり、接触や吸入によって刺激や害を引き起こす可能性のある有害なフッ化物化合物を放出する可能性があるため、取り扱いには注意が必要です。
ヘキサフルオロゲルマン酸アンモニウムの外観は?
回答通常、白い結晶性の粉末として現れます。