{{flagHref}}

製品

製品
カテゴリー
ブログ
ポッドキャスト
応用
ドキュメント

|

/ {{languageFlag}}

問い合わせ

a

SIBYLS: 先端光源におけるX線小角散乱と高分子結晶学のデュアルエンドステーションビームラインの実装と性能

タイトル	SIBYLS: 先端光源におけるX線小角散乱と高分子結晶学のデュアルエンドステーションビームラインの実装と性能
著者紹介	スコット・クラッセン、グレッグ・L・フラ、ジェームズ・ホルトン、ロバート・P・ランボー、イヴァン・ロディック、パトリック・J・マクガイア、ケビン・ダイアー、ミハエル・ハメル、ジョージ・メイグス、ケネス・フランケル、ジョン・テイナー
雑誌	応用結晶学ジャーナル
日付	02/01/2013
土居	10.1107/S0021889812048698
はじめに	先端光源のSIBYLSビームラインは、生体高分子の研究のために、X線小角散乱（SAXS）と高分子結晶学（MX）を統合するように設計されている。このデュアルエンドステーションセットアップにより、研究者は単一のビームラインを使ってSAXS実験と結晶学研究を行うことができ、研究効率を最適化することができる。このビームラインのユニークな構成は、構造生物学の広範な応用をサポートし、溶液および結晶形態の高分子構造の詳細な解析を可能にする。本論文では、ビームラインの設計、導入、性能について述べ、放射光を利用した研究の進展への貢献を強調する。
引用	Scott Classen, Greg L. Hura and James M. Holton et al. SIBYLSの実装と性能：先進光源におけるデュアルエンドステーション小角X線散乱および高分子結晶構造解析ビームライン。2013.doi: 10.1107/s0021889812048698
テーマ	ナノテクノロジーとナノ材料
産業	リサーチ＆ラボラトリー

関連論文

読み込み中... お待ちください...

SAMのウェブサイトに研究・論文を掲載する。

免責事項

このページでは、ユーザーが関連情報を簡単に検索できるように、学術論文のメタデータのみを提供しています。論文への完全なアクセスには、DOIを使用して元の出版社のウェブサイトをご覧ください。データは一般に公開されている学術データベースから入手したもので、これらのプラットフォームの利用規約に準拠しています。直ちに対処いたします。

成功登録が完了しました

登録が完了しました！この送信者からの素晴らしいメールを受信するために、すぐに受信箱をチェックしてください。

著作権 © 1994-2025 Stanford Advanced Materials所有 Oceania International LLC, all rights reserved.