ジスプロシウム蒸発材料について
スタンフォードアドバンストマテリアルズ(SAM)は、高品質のフッ化ジスプロシウム(DyF3)蒸発材料、酸化ジスプロシウム(Dy2O3)蒸発材料、ジスプロシウム(Dy)蒸発材料を提供しています。
Purity:Dy/TREM :99.995％,99.99％,99.999％,TREM:99.5％,99.9％,99.95％
形状：ワイヤー、シリンダー、ペレット、テーパー、不定形品
寸法：オーダーメイド
ジスプロシウム蒸着材の用途
半導体蒸着、化学気相成長（CVD）、物理気相成長（PVD）などの蒸着プロセスに使用。
摩耗保護、装飾コーティング、ディスプレイを含む光学用
ジスプロシウム蒸着材料の主な特徴
優れた磁気特性：ジスプロシウムはその優れた磁気特性で知られており、高度な磁気学や磁気記憶装置の製造に不可欠です。
熱安定性：ジスプロシウムは卓越した熱特性を有しており、高温用途や厳しい環境下での使用が可能です。
均一性：精密に設計されたジスプロシウム蒸発材料により、均一で一貫性のある薄膜を実現します。均一なコーティングは、薄膜技術において最適な性能を達成するために非常に重要です。
ジスプロシウム蒸発材料の用途
磁気ストレージジスプロシウムベースの薄膜は、高性能磁気記憶装置の製造に貢献し、データの保存と検索の効率を高めます。
磁気工学：ジスプロシウム薄膜は、その卓越した磁気特性を活かして、高度な磁性体や磁気部品を作ることができます。
研究開発：ジスプロシウム蒸着材料は、磁気学、高温用途、特殊なデバイス開発の研究に利用できます。
ジスプロシウム蒸発材料が選ばれる理由
磁気パワーハウス：ジスプロシウムの磁気特性を利用して、高性能の磁気学や磁気ストレージソリューションを開発することができます。
熱的信頼性：ジスプロシウムの熱安定性を利用して、極端な温度や厳しい条件下でのアプリケーションを実現します。
精密コーティング：ジスプロシウムの材料は、精密な磁気特性と熱特性を持つ薄膜の実現を可能にします。
革新の触媒：ジスプロシウム蒸着材料は、磁気学、電子工学、研究の進歩を促進します。
専門知識：薄膜技術ソリューションにおける当社の品質と革新へのコミットメントをご活用ください。
