タングステンAlNヒーターの説明
タングステンAlNヒーターは、窒化アルミニウムの優れた熱伝導性と電気絶縁特性とタングステンの高温機能を兼ね備えています。この組み合わせは、これらのヒーターは、半導体製造、先端材料研究、工業加熱、電子機器、科学機器における高温、高精度のアプリケーションに最適です。極端な温度に耐え、均一な加熱を提供し、化学的および機械的劣化に耐えるその能力は、最先端の技術および工業プロセスにおいて貴重なものとなっています。
タングステンAlNヒーター仕様
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加熱材料
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タングステン
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コーティング
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窒化アルミニウム
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線膨張係数
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4.3 x 10-6
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熱伝導率 (W/mK)
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170-180
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サイズ
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カスタマイズ
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加熱速度
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≤300 ℃/s
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タングステンAlNヒーターアプリケーション
1.半導体製造：
- CVDおよびPVDプロセス：化学気相成長（CVD）および物理気相成長（PVD）システムで使用され、薄膜やコーティングを製造する。
- エピタキシー：精密な温度制御が重要な半導体ウェハーのエピタキシャル成長プロセスで使用される。
2.先端材料研究：
- 高温実験：制御された高温環境を必要とする実験に使用される。
- 先端材料の合成：高温と精密な熱管理が必要な材料の合成に最適。
3.工業用加熱用途：
- 炉とキルン：材料加工や熱処理用途の高温炉やキルンに使用される。
- 熱処理：焼きなまし、焼結、ろう付けなどの工程で使用される。
4.エレクトロニクスとオプトエレクトロニクス
- LED製造：高温と精密な制御が必要な発光ダイオード（LED）の製造に使用される。
- レーザーダイオード：レーザーダイオードやその他のオプトエレクトロニクスデバイスの製造に使用される。
5.医療機器および科学機器：
- 分析機器：質量分析計や電子顕微鏡などの分析機器の高温部品に使用される。
タングステンAlNヒーター 包装
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タングステンAlNヒーター よくある質問
Q1: タングステンAlNヒーターはどのように製造されますか？
蒸着：タングステンは、化学気相成長法（CVD）や物理気相成長法（PVD）のようなプロセスを通じてAlN基板上に蒸着されます。
接合：タングステン層はAlN基板に接着され、耐久性が高く効率的な発熱体が形成されます。
Q2: なぜタングステンAlNヒーターが半導体製造に使用されるのですか?
これらのヒーターは、ウェハープロセスや薄膜蒸着などのプロセスに不可欠な、正確で均一な加熱を提供します。高い熱伝導性と電気絶縁性により、半導体製造において効率的で信頼性の高い性能を発揮します。
Q3: タングステン AlN ヒーターは、特定の用途向けにカスタマイズできますか？
はい、タングステンAlNヒーターは、最適な性能を確保し、特定のアプリケーションの要件を満たすために、様々な形状、サイズ、定格電力で製造することができます。
