フッ化カルシウム結晶基板の説明
フッ化カルシウム(CaF₂)結晶基板は、紫外(UV)から赤外(IR)領域までの優れた透過範囲により、光学およびフォトニクスで広く使用されている。低吸収、高レーザー損傷しきい値、自然に低い屈折率を特徴とするCaF₂基板は、多くのアプリケーションで追加の反射防止コーティングの必要性を排除します。その優れた化学的安定性と機械的特性は、極低温条件を含む厳しい環境にも適しています。
フッ化カルシウム結晶基板仕様
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格子定数
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5.462 A
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密度
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3.18g/cm3
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融点
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1360 °C
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分子量
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78.075 g/mol
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弾性係数
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C11 = 164, C12 = 53, C44 = 33.7 (7)
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熱伝導率
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9.71 W m-1 K-1(4)
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熱膨張率
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18.85 x 10-6/K
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ヤング率
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75.8 GPa
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体積弾性率 (K)
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82.71 GPa
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比熱
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854 J/(g-K)
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研磨
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片面研磨、両面研磨
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*上記製品情報は理論値です。具体的なご要望、詳細につきましては、お問い合わせください。
フッ化カルシウム結晶基板の用途
- 分光学 - 紫外~赤外分光分析用の基板材料または窓として使用されます。
- レーザー光学 - 吸収率が低く、損傷しきい値が高いため、レーザーデバイスやシステム、特にエキシマレーザーに使用されます。
- 薄膜堆積およびエピタキシャル成長 - 膜成長およびコーティングプロセスの基板として使用される。
- UVリソグラフィー - 深紫外光を用いた半導体やマイクロエレクトロニクスのプロセスで使用される。
- 赤外線イメージングシステム - 極低温状態を含む赤外線イメージングおよび赤外線検出システムに使用される。
- 光学部品製造 - 紫外、可視、赤外にわたる窓、レンズ、プリズム、ビームスプリッターの基材。
フッ化カルシウム結晶基板パッケージ
当社の製品は、材料の寸法に基づいて様々なサイズのカスタマイズされたカートンに梱包されます。小さな製品はPP箱に、大きな製品は特注の木枠にしっかりと梱包されます。包装のカスタマイズを厳守し、適切な緩衝材を使用して、輸送中に最適な保護を提供します。
梱包クリーンバッグ、シングルまたはマルチチップウェハーボックス、カートン、木箱、またはカスタマイズ。


よくある質問
Q1 CaF2基板は赤外線(IR)アプリケーションに使用できますか?
はい、CaF2基板は赤外線(IR)用途に非常に適しています。CaF2基板は赤外光学部品、特に高性能レンズや窓によく使用されています。CaF2は赤外域での吸収が低く、様々な赤外システムに理想的な材料です。
Q2 フッ化カルシウム(CaF2)基板は、どのように洗浄・メンテナンスすればよいですか?
CaF2基板は壊れやすいため、取り扱いには注意が必要です。クリーニングは、柔らかく糸くずの出ない布と中性洗剤溶液を使って行うことができます。結晶表面を傷つける可能性のある刺激の強い化学薬品や研磨剤は避けてください。汚れがひどい場合は、イソプロピルアルコールと 超音波洗浄(該当する場合)を使用してください。基板の品質を維持するためには、ほこりのない環境で適切に保管することが不可欠です。
Q3.CaF2基板を使用する上での課題はありますか?
CaF2は光学用途には優れた材料ですが、脆く、高湿度に敏感であるため、シナリオによっては困難な場合があります。適切な取り扱いと保管は、表面欠陥を避け、光学的完全性を維持するために非常に重要です。さらに、フッ化カルシウム結晶は他の光学材料よりも傷つきやすいため、慎重な取り扱いが必要です。
仕様
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格子定数
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5.462 A
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密度
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3.18g/cm3
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融点
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1360 °C
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分子量
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78.075 g/mol
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弾性係数
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C11 = 164, C12 = 53, C44 = 33.7 (7)
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熱伝導率
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9.71 W m-1 K-1(4)
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熱膨張率
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18.85 x 10-6/K
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ヤング率
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75.8 GPa
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体積弾性率 (K)
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82.71 GPa
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比熱
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854 J/(g-K)
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研磨
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片面研磨、両面研磨
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*上記製品情報は理論値です。具体的なご要望、詳細につきましては、お問い合わせください。