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ニオブ酸リチウムからグラフェンまで、これらの材料の統合は、既存のデバイスの性能を向上させるだけでなく、革新的な電気光学技術開発のための新たな可能性を解き放ち、現代のフォトニクスと通信システムの景観を形作る。
フォトニクスとテレコミュニケーションの領域において、電気光学デバイスはパイオニア的存在であり、無数のアプリケーションのための光の操作と伝送を可能にします。このページでは、電気光学デバイスの進化を推し進め、その効率を高め、現代技術におけるその役割を拡大している最先端の材料についてご紹介します。
ニオブ酸リチウム(LiNbO3):
ガリウムヒ素(GaAs):
ポリマーベース材料:
シリコンフォトニクス
酸化マグネシウム添加タンタル酸リチウム(MgO:LiTaO3):
カルコゲナイドガラス
フォトニック結晶
メタマテリアル
グラフェン
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