原子レベルで薄いシートの摩擦特性。

タイトル	原子レベルで薄いシートの摩擦特性。
著者紹介	リー・チャング、リー・クニャン、ウィリアム・カルブ、リウ・シンジュー、ヘルムート・バーガー、ロバート・W・カーピック、ジェームズ・ホーン
雑誌	サイエンス（ニューヨーク州ニューヨーク市）
日付	04/02/2010
土居	10.1126/science.1184167
はじめに	本研究では、摩擦力顕微鏡を用いて、酸化シリコン基板上のグラフェン、二硫化モリブデン（MoS2）、二セレン化ニオブ、六方晶窒化ホウ素の原子レベルの薄いシートのナノスケールの摩擦特性を評価した。その結果、層数が少なくなるにつれて摩擦が増加することが観察されたが、これはすべての材料で一貫した傾向であった。浮遊グラフェン膜も同じパターンを示したが、雲母表面に付着させると、この効果は減少した。チップとサンプル間の接着力は、厚さや基材に関係なく一定であった。グラフェンとMoS2は、原子格子のスティック-スリップ摩擦を示し、最も薄いシートでは、滑走長に関連して静止摩擦が増加した。これらの知見は有限要素モデリングによって裏付けられ、シートが薄いほど面外弾性変形の可能性が高まることがこの傾向に寄与していることを示唆している。
引用	Changgu Lee, Qunyang Li and William Kalb et al. Frictional characteristics of atomically thin sheets.Science (New York, N.Y.).2010.328(5974)巻。DOI: 10.1126/science.1184167
エレメント	カーボン（C） , モリブデン (Mo) , ニオブ , ホウ素（B）
材料	ナノコンポジット , 半導体 , クリスタル
テーマ	ナノテクノロジーとナノ材料 , グラフェンと2D材料
産業	リサーチ＆ラボラトリー