VD0800 ハフニウムシリサイド(HfSi2)蒸着材料

カタログ番号	VD0800
素材	ハフニウムシリサイド (HfSi2)
純度	99.5%
形状	粉末/ 顆粒/ オーダーメイド

Stanford Advanced Materials （SAM）は、高純度ハフニウムシリサイド蒸発材料の一流メーカーであり、サプライヤーであると自負しております。当社の広範な製品ラインは、錠剤、顆粒、ロッド、ワイヤーを含む様々な形状を網羅し、特定のニーズに合わせて形状や数量をカスタマイズすることができます。

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概要

仕様

SDS

仕様	材質
材料タイプ	ハフニウム(IV)ケイ酸塩
記号	HfSi2
外観/色	正方晶
融点	2,758 °C (4,996 °F; 3,031 K)
密度	7.0 g/cm³
純度	99.5%
形状	粉末、顆粒、特注品

仕様	商品説明
材料タイプ	ハフニウム(IV)シリケート
記号	HfSi2
外観/色	正方晶
融点	2,758 °C (4,996 °F; 3,031 K)
密度	7.0 g/cm³
純度	99.5%
形状	粉末、顆粒、特注品