1100C フランジ付縦型真空炉 VBF-1200X-V9 解説
フランジ付1100C真空縦型炉はØ200×Ø190×H425 mmの石英管チャンバーとステンレス製フランジおよびバルブを装備した真空縦型炉です。Torrターボポンプを装備し、10^-5 Torrの真空度を達成します。半導体ウェハー（直径8インチまで）の焼成またはアニール用に設計され、真空または各種ガス雰囲気下で作動し、最高温度は1100℃に達します。
フランジ付1100℃真空炉 VBF-1200X-V9 仕様
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特徴
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- チャンバーを囲む高純度アルミナファイバー断熱材
- 大口径パイプ、高真空度
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基本パラメータ
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- 最高加熱温度1100℃ (< 1時間)
- 連続加熱温度1000°C
- 推奨加熱速度10℃/分
- 発熱体Ni-Cr-Al抵抗線
- 熱電対タイプK
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電源
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220VAC、3.5KW、50/60Hz
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石英管と効果的な加熱
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- チューブサイズ：Ø200×Ø190×H425 mm
- 最大荷重40Kg
- 加熱面積: Ø240×H245 mm
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真空フランジ
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- ステンレス製真空フランジ、高温用シリコンOリング、水冷ジャケット付
- 10-2torrまでの機械式真空計（標準付属品として付属
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温度コントロール
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- NRTL認定デジタル温度コントローラー付属
- 比例-積分-微分制御（PID制御）とオートチューン機能
- ランプ、冷却、住居ステップでプログラムされた50セグメント
- 過熱アラームおよび熱電対故障アラーム内蔵
- 温度制御精度 +/- 1 ºC
- PC接続用DB9 PC通信ポート付属
- ユーロサーム温度コントローラー（精度+/-0.1℃）を追加料金で利用可能
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全体寸法
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500mm L * 530mm W * 880mm H
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正味重量
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70 kg
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保証
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- 年間限定保証、生涯サポート付き
- 注意：腐食性ガスや酸性ガスの使用に起因する損害は、SAM 1年限定保証の対象外となります。
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認証
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- CE認証
- NRTLまたはCSA認証は別途費用で取得可能です。
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1100℃ フランジ付縦型真空炉 VBF-1200X-V9 用途
- 材料科学と工学セラミック、金属、複合材料などの先端材料の合成、アニール、熱処理に使用されます。研究開発を目的とした材料の微細構造と特性の精密な制御を可能にします。
- 半導体加工：アニール、酸化、拡散、蒸着プロセスなど、半導体デバイスの製造・加工に使用される。クリーンな高真空環境で作業することにより、半導体材料の純度と完全性を保証する。
- 電子機器製造：半導体ウェハーのアニール、薄膜トランジスタの製造、パッケージング工程など、電子部品やデバイスの製造に利用される。
- 太陽電池製造：太陽電池材料の性能と効率を最適化するためのアニールおよびドーピング工程を含む、太陽電池および光起電力デバイスの製造に使用。
フランジ付き1100C真空縦型炉 VBF-1200X-V9 パッケージング
当社のフランジ付1100C真空縦型炉VBF-1200X-V9は 、製品の品質を元の状態で維持するために、保管中および輸送中に慎重に取り扱われます。
