アルミナセラミックディスク、酸化アルミニウムディスク、Al2O3ディスクの説明
アルミナの陶磁器ディスク、酸化アルミニウムディスク、Al2O3ディスクは≥95%の純度のレベルおよび3.65 g/cm³の密度の高純度の酸化アルミニウム(Al2O3)を使用して作り出される。ディスクの形状は、熱的・電気的ストレスのかかる用途に最適化されています。その精密な製造は、制御された気孔率と均一な結晶粒構造を保証し、絶縁、耐摩耗性、高温処理環境での役割をサポートします。
アルミナ・セラミック・ディスク、酸化アルミニウム・ディスク、Al2O3ディスクの用途
エレクトロニクス
- 高密度・高純度を活かし、半導体デバイスの放熱管理用サーマルバリアとして使用。
- 電子アセンブリの絶縁スペーサーとして使用され、安定した微細構造を利用して電気的分離を維持し、クロストークを防止します。
工業用加工
- 化学的に不活性な酸化アルミニウム組成により、化学反応器の耐食性部品として使用され、材料の劣化を緩和する。
- 高温炉の保護部材として使用され、極度の熱負荷下でも構造的完全性を維持する。
科学研究
- 熱伝導率試験の校正標準として使用され、その一貫した密度と材料特性を活用することで、再現性のある正確な測定を実現します。
アルミナ・セラミック・ディスク、酸化アルミニウム・ディスク、Al2O3ディスクの梱包
ディスクは、静電気防止包装で個々に固定され、機械的衝撃を防ぐために発泡スチロールで緩衝されています。梱包には、汚染を防ぐための防湿袋が含まれています。材料の安定性を維持するため、所定の温度と湿度に管理された環境で保管されます。出荷要件に応じて、カスタマイズされたラベリングや強化ケースのオプションもご利用いただけます。
よくある質問
Q1: ディスクの純度を95%以上に保つ意義は何ですか?
A1: 95%以上の純度を維持することで、不純物によるばらつきを最小限に抑え、材料本来の電気絶縁性と熱管理特性を維持することができます。このレベルの管理は、過酷な使用条件下で安定した性能を必要とするアプリケーションにとって極めて重要です。
Q2: カスタマイズ可能な寸法仕様は、ユーザーにどのようなメリットをもたらしますか?
A2: カスタマイズ可能な寸法は、スペースの制約や特定のアプリケーションの形状が重要となる様々な設計への統合を可能にします。この柔軟性は、精密な部品アライメントを必要とするシステムにおいて、最適な適合と性能を達成するのに役立ちます。
Q3:製造時にはどのような品質管理方法が適用されますか?
A3: 品質管理には、走査型電子顕微鏡を用いた微細構造分析と、日常的な相組成評価が含まれます。これらの方法により、一貫した結晶粒構造と純度が確認され、ディスク材料が要求の厳しい用途向けに定義された技術基準を満たしていることが保証されます。
追加情報
化学的にはAl2O3として知られるアルミナは、その電気絶縁性と熱安定性で広く知られています。その結晶構造は、高温や腐食性環境に耐える能力に貢献し、学術および産業研究の両方で定番の材料となっています。
アルミナの化学的不活性と機械的強度は、電子デバイスの絶縁から高温構造部品に至るまで、さまざまな分野で利用されている。アルミナの背後にある材料科学を理解することは、エンジニアが多様な産業用途での使用を最適化するのに役立ちます。
仕様
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項目
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単位
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Al95
|
Al99
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Al995
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AL2O3含有量
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Wt
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95
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99
|
99.5
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色
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-
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ホワイト
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アイボリー
|
アイボリー
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密度
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g/cm3
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~3.7
|
~3.9
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3.92
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曲げ強さ
|
MPa
|
300
|
330
|
375
|
|
圧縮強さ
|
MPa
|
2200
|
2350
|
2450
|
|
モース硬度
|
-
|
9
|
9
|
9
|
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熱伝導率
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W/(m-K)
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18-22
|
27
|
29
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熱膨張係数
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×10-⁶/°C
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7.7
|
7.8
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7.8
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使用温度
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°C
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≤1500
|
≤1600
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≤1750
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誘電率
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-
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9
|
9.7
|
9.8
|
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体積抵抗率 (25°C)
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オーム・cm
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>10^14
|
>10^14
|
>10^14
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*上記の製品情報は理論データに基づくものであり、参考値です。実際の仕様は異なる場合があります。