アルミナセラミックディスク、酸化アルミニウムディスク、Al2O3ディスク99.5%、Dia.32 mm 説明
アルミナセラミックディスクは、99.5%の最低純度を満たす高純度Al2O3から設計されています。直径32mmは、精密な機械加工と焼結プロセスによって維持されています。この材料の曲げ強度(300~450MPa)と圧縮強度(~2000~3000MPa)は、寸法安定性が要求される用途に適しています。さらに、30W/(m・K)の熱伝導率と高い抵抗率が、高温環境での性能に貢献している。
アルミナ・セラミック・ディスク、酸化アルミニウム・ディスク、Al2O3ディスク 99.5%、Dia.32 mm 特性
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特性
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値
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式
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Al2O3
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形状
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ディスク
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材質
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酸化アルミニウム
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商品
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セラミックス
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公差
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標準焼結公差
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類義語
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アルミナセラミック, Al2O3セラミック
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分子量
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101.96 g/mol
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融点 (°C)
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~2072 °C
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密度 (g/cm³)
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3.9
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硬度 - ビッカース
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値なし
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曲げ強さ (MPa)
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300-450
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圧縮強さ (MPa)
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~2000-3000
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熱伝導率 (W/(m-K))
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30
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電気絶縁性(体積抵抗率
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>10^14オーム・cm
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*上記の製品情報は理論データに基づくものであり、あくまでも参考値です。実際の仕様は異なる場合があります。
アルミナセラミックディスク、酸化アルミニウムディスク、Al2O3ディスク 99.5%, Dia.32 mm 用途
1.エレクトロニクス
- 高温センサーアセンブリの絶縁基板として使用され、その優れた電気抵抗率を利用して最小限の電気干渉を実現します。
2.工業加工
- 圧縮強度と曲げ強度に優れているため、変形することなく荷重に耐えることができる。
3.半導体製造
- 加工装置の精密工具部品として、寸法安定性と熱管理を維持し、プロセスのばらつきを抑える。
アルミナセラミックディスク、酸化アルミニウムディスク、Al2O3ディスク99.5%、Dia.32 mm 梱包
ディスクは、機械的損傷や汚染を防ぐため、帯電防止、発泡裏地付き容器に梱包されています。輸送中の吸湿を防ぐため、不活性雰囲気バッグに密封されています。乾燥した温度管理された環境での保管を推奨。特定の取り扱い基準を満たすため、ご要望に応じて、個別の小分け箱やラベリングなどのカスタム包装も可能です。
追加情報
アルミナセラミックは、熱安定性と機械的強度の両方が求められる用途で重要な役割を果たします。制御された焼結プロセスは、密度を高めるだけでなく、微細構造の欠陥を最小限に抑え、熱応力下での一貫した性能に貢献します。
高純度酸化アルミニウムの工業部品への統合は、加工装置や半導体製造の進歩を加速しています。高温・高圧環境における材料性能の向上には、微細構造と機械的特性の関係を理解することが不可欠です。