アルミナセラミックディスク、酸化アルミニウムディスク、Al2O3ディスク99.5%、Dia.51 mm 説明
アルミナの陶磁器ディスク、酸化アルミニウムディスク、Al2O3ディスク99.5%、Dia。51 mmは≥99.5%の純度のレベルおよび3.9 g/cm³の密度の正確な51のmmの直径を特色にする。化学組成はAl2O3で、化学的不活性と寸法均一性を提供します。このディスク形状は、一貫した物理的特性と熱応力下での構造安定性を必要とする用途に最適で、絶縁部品や耐荷重部品において効果的な性能を発揮します。
アルミナセラミックディスク、酸化アルミニウムディスク、Al2O3ディスク 99.5%、Dia.51 mm 用途
産業用途
- 高温炉システムの断熱部品として使用し、その化学的不活性を利用して熱損失を軽減する。
- 精密組立部品の構造スペーサーとして使用し、寸法安定性を利用して幾何公差を維持する。
エレクトロニクス用途
- 高純度酸化アルミニウム組成を利用して電気的絶縁を達成するため、回路アセンブリの基板として使用されます。
- マイクロエレクトロニクスパッケージングのバリアとして使用され、その一貫した材料特性を利用して汚染を防止します。
アルミナ・セラミック・ディスク、酸化アルミニウム・ディスク、Al2O3ディスク 99.5%、Dia.51 mm 梱包
ディスクは、輸送中の汚染や物理的損傷を防ぐため、帯電防止、発泡裏地付き容器に梱包され、防湿袋で密封されています。各ユニットは、衝撃を吸収し、幾何学的精度を維持するためにクッション材が入っています。保管は乾燥した温度管理された環境で行う。個別のラベリングや区分けなど、特定の取り扱い要件に基づいたカスタム包装も可能です。
よくある質問
Q1:アルミナ材料の高純度は、その性能にどのような影響を与えますか?
A1: 99.5%以上の純度は、熱的および機械的特性に影響を与える不純物を最小限に抑えます。この管理により、高温条件下での安定した挙動と、精密な材料特性を必要とする用途での一貫した性能が保証されます。
Q2: セラミック・ディスクには、どのような保管・取り扱い方法が推奨されますか?
A2: セラミック・ディスクは、機械的衝撃を最小限に抑え、乾燥した温度安定環境で保管することをお勧めします。帯電防止包装と湿気バリアが汚染や損傷を防ぎ、ディスクの正確な寸法と材料の完全性を保ちます。
Q3:ディスクの寸法は、特定の用途向けにカスタマイズできますか?
A3: 標準仕様では直径51mmです。寸法のカスタマイズは、技術的な評価により可能な場合があります。材料特性と性能基準が維持されるよう、修正が評価されます。
追加情報
Al2O3 を主成分とするアルミナセラミックスは、熱安定性と化学的不活性が要求される用途に広く使用されています。高純度合成プロセスによって支配されるその微細構造は、有益な機械的特性と絶縁特性に寄与しています。セラミック材料の研究は、様々な高温環境や腐食環境におけるこれらの部品の一貫性と機能性をさらに向上させるために、加工方法を進歩させ続けています。
製造技術の進歩により、アルミナセラミックスの寸法や純度レベルを正確に制御することが可能になりました。このようなプロセスの改善により、特に寸法公差と熱管理が重要な分野で、この材料の応用範囲が広がっています。セラミック加工における継続的な開発は、現代の工学的課題における材料の関連性を強調しています。