多孔質アルミナディスク Dia.102 mm 説明
ポーラスアルミナディスク Dia.102 mmは、Al2O3から製造され、設計された多孔質構造が特徴です。直径102 mmは、標準的な工業用処理装置との互換性を保証します。その多孔性は、断熱性または制御された透過性を必要とする用途向けに、表面相互作用の改善を促進します。セラミックディスクは、制御された条件下で加工され、微細構造の不一致を低減し、均一な気孔分布を確保することで、操作性能を向上させます。
ポーラスアルミナディスク Dia.102 mm 用途
1.エレクトロニクスおよび電気システム
- パワーモジュールの絶縁部品として使用され、固有の化学的不活性を利用して漏電を低減する。
- センサーハウジングの基板として使用し、多孔質構造を利用して熱放散を管理する。
2.工業用加工
- 化学処理装置のフィルター支持体として使用され、その均一な細孔分布を利用して正確な分離を実現する。
- 高温用途では、セラミック特性を利用し、動作安定性を維持するためのヒートバリアとして使用される。
3.研究室のろ過と分析
- 制御された気孔率を利用し、流体分離を制御するろ過装置の支持構造として使用。
- 分析機器では、その材料純度を利用して汚染を最小限に抑える安定した不活性プラットフォームを提供するために使用される。
ポーラスアルミナディスク Dia.102 mm 梱包
ディスクは帯電防止、耐湿性のパウチに梱包され、機械的ストレスと汚染を防ぐために、発泡スチロールで裏打ちされた硬質容器に固定されています。梱包により、輸送中および保管中の環境要因への曝露が最小限に抑えられます。涼しく乾燥した環境での保管を推奨する。特定の操作上の取り扱いおよび保管要件に適合するよう、カスタム包装オプションもご利用いただけます。
よくある質問
Q1: ディスクの制御された気孔率は、断熱用途での性能にどのように影響しますか?
A1: ディスクの制御された気孔率は、熱管理と流体透過性を向上させ、電子機器や産業環境における絶縁性能を高めます。均一な気孔構造は、ホットスポットを最小限に抑え、熱を均一に放散するのに役立ちます。
Q2: ディスクの寸法精度と気孔率を検証するために、どのような手順がとられていますか?
A2: 製造工程では、校正された測定ツールを使用した寸法検証と、走査型電子顕微鏡を使用した気孔率分析が行われます。 これらの品質管理措置により、気孔分布の一貫性と直径102mmの仕様の遵守が保証されます。
Q3:ディスクは、既存の工業用ろ過システムにそのまま組み込むことができますか?
A3: はい、ディスクの標準直径は102mmなので、多くの既存のろ過システムや断熱システムにシームレスに組み込むことができます。その均一な材料特性は、後付け用途において予測可能な性能を容易にします。
追加情報
アルミナベースのセラミックは、高い化学的不活性と安定性が要求される環境で幅広く使用されています。Al2O3の加工には、機械的耐久性を向上させる焼結技術が含まれる一方、所望の機能特性を達成するために気孔率を制御します。これらのパラメーターを特定の産業用途に最適化するための研究が続けられている。
セラミック材料における気孔率、粒径、および純度の相互作用を理解することは、熱管理からろ過に至るまでの用途において極めて重要です。材料科学と特性評価ツールの進歩により、これらの特性のより精密な制御が可能になり、エレクトロニクス、工業処理、実験機器などの分野での性能向上を支えています。