アルミナるつぼ、Al2O3 るつぼ正方形、95%、10 mL 説明
このるつぼは、純度 95% のアルミナ (Al2O3) から製造され、容積 10 mL の正方形の容器に成形されています。この材料は、約32 Kpsiの引張強さと300 Kpsi付近の圧縮強さを示し、高い熱負荷下での構造安定性をサポートします。25W/(m・K)の熱伝導率と1500℃までの使用温度は効果的な熱管理を保証し、10^14Ω・cmを超える体積抵抗率は電気絶縁性を提供する。
アルミナるつぼ、Al2O3るつぼ正方形、95%、10 mL 用途
1.電子機器製造
- 熱安定性と電気絶縁性を利用し、制御された高温反応を実現するため、半導体プロセスで耐火物容器として使用される。
- 結晶成長システムの基板ホルダーとして使用し、熱サイクル中の均一な熱分布を確保し、汚染を防止する。
2.工業プロセス
- セラミック製造の反応容器として使用され、汚染を最小限に抑える化学的に不活性な環境を提供し、材料の純度を高めます。
- 金属合金の溶解用るつぼとして使用され、安定した熱性能により一貫した合金化が促進され、プロセス制御が改善されます。
製品比較
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純度 (%)
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容量 (mL)
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主な用途
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99%
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10, 30, 40
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研究所、TGA、少量バッチ貴金属材料試験、触媒研究
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99%
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75, 150
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一般研究室での焼成、粉末処理、小型セラミック焼結
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99%
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215, 300, 500
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中規模生産、セラミック部品焼成、大規模バッチ処理
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99%
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720, 1000
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工業用焼成、大量粉末処理、パイロットプラントスケール
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95%
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10, 30, 40
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教育ラボ、学生実験、非臨界熱処理
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95%
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75, 150
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汎用溶解(非鉄)、灰分測定、セメント試験
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95%
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215, 300, 500
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金属鋳造(アルミニウムなど)、ガラスフリット製造、耐火物試験
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95%
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720, 1000
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鋳造用途、大量金属溶解、工業炉ライナー
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アルミナるつぼ、Al2O3るつぼ正方形、95%、10 mL包装
本製品は、汚染防止のため、クッション性のある静電気防止包装に個別に収納されています。温度および構造的特性を維持するため、管理された温度条件下で保管されます。包装デザインには、輸送中および保管中の取り扱いとトレーサビリティを向上させるためのカスタムラベルと区画オプションが含まれています。
よくある質問
Q1: るつぼの性能を保証する品質管理テストは何ですか?
A1: SAM では、バッチごとに X 線回折と微細構造分析を行い、相の純度と一貫性を検証して、材料が高温性能基準を満たしていることを確認しています。
Q2: るつぼは、熱応力下でどのように完全性を維持するのですか?
A2: 高いアルミナ含有量と制御された微細構造により、安定した熱伝導性と強度が得られ、高温に長時間さらされても寸法変化が少なくなります。
Q3: このるつぼの特注体積サイズは可能ですか?
A3: 体積および寸法の調整を含む特注オプションは、材料の熱的および機械的仕様を維持しながら特定のプロセス要件を満たすために、ご要望に応じてご利用いただけます。
追加情報
アルミナベースのセラミックは、化学的に不活性で融点が高いため、熱処理で広く使用されています。これらの材料は、厳しい条件に耐えるように配合されており、半導体製造から工業用溶融プロセスまでの用途において、耐久性とプロセスの一貫性を保証します。
セラミック加工と品質保証手法の進歩により、アルミナ製品の性能は向上している。走査型電子顕微鏡や熱分析などの詳細な特性評価技術は、高温環境における材料の一貫性と操作信頼性の継続的な改善を支えている。
仕様
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仕様
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価格
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寸法
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10 mL
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引張強度
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~32 Kpsi
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圧縮強さ
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~300 Kpsi
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熱伝導率
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25 W/(m-K)
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使用温度
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≤1500 ℃
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体積抵抗率
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>10^14オーム・cm
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*上記の製品情報は理論的なデータに基づくものであり、参考値です。実際の仕様は異なる場合があります。