サファイアウェハーAl2O3 C面(0001) 5x5x0.5 mm 説明
サファイアウェハーAl2O3 C面(0001) 5x5x0.5 mmは、単結晶酸化アルミニウム(Al2O3)から製造され、(0001)方位を示します。 5 mm x 5 mmの寸法と0.5 mmの厚さは、半導体および光学アセンブリプロセスへの統合をサポートします。結晶方位が明確なため、表面は滑らかで、転位密度も低減されている。この製品は、X線回折と表面形状測定によって検証されたように、制御された成長条件によって特徴付けられます。
サファイアウェハー Al2O3 Cプレーン (0001) 5x5x0.5 mm 用途
1.エレクトロニクス
- 正確な結晶方位と平坦な表面を活かして均一な誘電特性を実現するため、集積回路の基板として使用。
- マイクロエレクトロニクスデバイスの絶縁層として使用され、安定したAl2O3構造により電気的干渉を最小限に抑えます。
2.光学
- レーザーシステムの光学窓として使用され、その低欠陥密度を利用して透明性と一貫性を維持する。
- フォトニックデバイスのベース材料として使用され、散乱損失を低減し、デバイス全体の性能を向上させる。
サファイアウェハー Al2O3 Cプレーン (0001) 5x5x0.5 mm 梱包
各サファイアウェハーは、機械的損傷や汚染を防ぐため、帯電防止パウチに個別に封入され、クッション性のある容器に入れられます。温度と湿度が管理された環境で保管し、材料の完全性を維持します。特定の取り扱いおよび保管要件に対応するため、ラベルの追加や区分けなど、カスタマイズされた包装オプションもご利用いただけます。
よくある質問
Q1: C面方位はウェハー処理にどのような影響を与えますか?
A1: C面(0001)方位は、均一で原子レベルで滑らかな表面を提供し、転位密度を低減することで正確なリソグラフィーと蒸着プロセスを助けます。この配向は、その後のデバイス製造工程における一貫性を保証します。
Q2: ウェハー製造中、どのような品質管理が行われていますか?
A2: 品質管理には、結晶方位を確認するX線回折(XRD)と、平坦度と欠陥レベルを評価する表面形状測定が含まれます。 これらのテストにより、ウェハが半導体アプリケーションに要求される厳しい仕様を満たしていることが確認されます。
Q3: ウェハーの寸法や厚さをカスタマイズすることは可能ですか?
A3: 生産能力に応じてカスタマイズが可能な場合があります。 具体的な寸法や厚みの調整には、プロセスの実現可能性や関連する品質管理の修正についてご相談いただく必要があります。
追加情報
Al2O3単結晶の一種であるサファイアは、化学的不活性、高い熱安定性、優れた電気絶縁性により、材料科学において重要な役割を果たしています。その硬く安定した構造は、半導体や光学産業における高精度用途において魅力的な基板となっている。
サファイアウェーハの結晶方位の意味を理解することは、デバイスの性能を最適化するために不可欠であり、XRDや表面形状測定などの詳細な特性評価法により、これらの基板が高度な製造プロセスに要求される厳しい基準を満たすことが保証される。