サファイアウエハ Al2O3 Mプレーン 10x10x0.5 mm 説明
サファイアウェハー Al2O3 Mプレーン 10x10x0.5mmは、Mプレーン配向が制御されたアルミナベースの基板です。10x10mmの寸法は標準的な加工装置との互換性を確保し、0.5mmの厚みは取り扱いの容易さをサポートし、反りを低減します。この材料は優れた熱伝導性と化学的不活性を示し、低表面欠陥と高い寸法精度を必要とする半導体加工や光学用途に適しています。
サファイアウェハー Al2O3 Mプレーン 10x10x0.5 mm 用途
1.エレクトロニクス
- LEDパッケージの基板として使用し、高い熱伝導性を利用して効率的な放熱を実現する。
- 半導体デバイスのエピタキシャル成長用基板として使用し、超平坦な表面仕上げによる低欠陥密度を実現する。
2.光学
- レーザーシステムのプラットフォームとして使用され、ウェハーの低パーティクルレベルを利用することにより、散乱を最小限に抑えます。
- 化学的不活性を利用して安定した光透過を実現するため、高温機器の光学窓として使用される。
3.産業用システム
- センサモジュールの絶縁体として使用され、アルミナの優れた電気抵抗を生かした安定した性能を実現。
- 高温計測機器の部品として使用され、その強固な熱安定性により信頼性の高い動作を実現する。
サファイアウェーハ Al2O3 M 面 10x10x0.5 mm 梱包形態
ウェハーは、機械的損傷や汚染を防ぐため、不活性で帯電防止緩衝材を使用したクリーンルームグレードの容器に個別に梱包されています。表面の完全性を維持するため、湿度と温度が管理された状態で保管されます。パッケージングデザインには、トレーサビリティのための詳細なラベル付けと、特定の保管または輸送要件に対応するためのカスタマイズオプションが含まれています。
よくある質問
Q1: 製造中、Mプレーンの向きはどのように確認されますか?
A1: ウェハーのM面方位は、X線回折(XRD)分析を用いて検証されます。この方法によって正確な結晶学的データが得られ、基板が正確な角度公差に適合していることが保証されます。
Q2: このサファイア・ウェーハの取り扱いにはどのような注意が必要ですか?
A2: ウェハーを取り扱う際には、クリーンルーム用の手袋と帯電防止工具を使用することをお勧めします。これにより、表面汚染や機械的ストレスのリスクを最小限に抑えることができます。
Q3: ウェハは高温処理環境に耐えられますか?
A3: アルミナ固有の熱安定性により、ウェハは、半導体製造において一般的に遭遇する高温プロセスに対応することができます。 ただし、プロセス中の熱衝撃を防ぐために、特定の温度ガイドラインに従うことが重要です。
追加情報
単結晶酸化アルミニウム(Al2O3)であるサファイアは、その高い硬度と優れた誘電特性で広く知られており、化学的不活性と高温での安定性により、半導体製造や先端光学など様々な分野の基板として好まれています。製造中に得られる制御された結晶方位は、低欠陥密度を達成し、精密用途で均一な性能を確保する上で極めて重要な役割を果たしている。
材料科学において、サファイアウェーハの開発は、結晶学的パラメータと表面仕上げの厳密な制御によって発展してきました。これらの進歩により、電子デバイスや光学デバイスの界面特性が改善され、デバイスの信頼性と性能の向上に寄与しています。