サファイアウェハー Al2O3 Rプレーン 5x5x0.5 mm 説明
サファイアウェハーAl2O3 Rプレーン5x5x0.5 mmは、半導体および光学研究において高精度の製造用に設計されたAl2O3基板です。寸法は5mm x 5mm、厚さは0.5mmで、標準的な加工装置との互換性を保証します。R面配向は、表面の均一性と層の密着性の向上を促進し、効果的な蒸着とエッチング作業を可能にします。Al2O3固有の化学的不活性は、最小限の汚染を必要とする環境での使用をさらにサポートします。
サファイアウェハー Al2O3 R面 5x5x0.5 mm 用途
エレクトロニクスおよび半導体用途
- 化学的不活性を利用して電気的絶縁性を高めるため、集積回路の基板として使用される。
- MEMSデバイスのベースとして使用され、その制御された寸法と均一な表面特性により安定した性能を実現します。
光学および精密機器
- LEDやレーザーシステムの部品として使用され、その高い熱伝導率を利用して熱安定性をサポートします。
- 一貫したR面配向により正確な成膜を容易にするため、光学センサーに採用されています。
サファイアウェハー Al2O3 R面 5x5x0.5 mm 梱包
ウェハーは、機械的ストレスを緩和するために発泡スチロールを挿入した帯電防止容器に個別に梱包されています。乾燥剤入りの密封パウチは湿気への暴露を防ぎ、基板は完全性を維持するために平らに保管されます。カスタムラベルや容器の変更などの追加オプションは、特定の研究室や産業用ハンドリング要件に合わせてご利用いただけます。
よくある質問
Q1: R面配向は、その後の処理工程にどのようなメリットをもたらしますか?
A1: R面配向は表面の凹凸を最小限に抑え、蒸着やエッチング工程における層の密着性を高めます。この一貫性は、精密なパターニングと正確なデバイス製造を必要とするアプリケーションにとって極めて重要です。
Q2: ウェハーの完全性を維持するために、どのような取り扱いが推奨されますか?
A2: ウェハーはクリーンルーム内で静電気防止ツールを使用して取り扱い、密封されたクッション性のあるパッケージで保管することをお勧めします。これらの対策は、処理中や輸送中の微粒子汚染や機械的ストレスからの保護に役立ちます。
Q3: このウェハー基板にカスタム寸法は可能ですか?
A3: ウェハー寸法のカスタマイズは、技術的な検討の上、可能です。 特定の要件は、結晶学的品質と加工互換性が維持されるように評価され、修正はケースバイケースで評価されます。
追加情報
サファイア(酸化アルミニウム(Al2O3))は、その化学的不活性と高い熱伝導性により、材料科学の分野で高く評価されています。これらの特性により、特に半導体プロセスや光学部品製造など、安定した熱的・化学的性能を要求される用途の基板に適しています。
結晶学と材料特性の相互作用を理解することは、精密製造環境における性能を最適化し、デバイス統合における新たな開発を促進するために不可欠である。