サファイアウェハーAl2O3 C面(0001)10x5x0.5 mm 説明
サファイアウェハーAl2O3 C面(0001) 10x5x0.5 mmは、(0001)方位を示す高純度単結晶酸化アルミニウム基板です。寸法は10mm x 5mm、厚さは0.5mmで、機械的安定性を維持しながら、標準的な半導体加工装置との互換性を確保しています。その正確な結晶学的配向は、研究および生産プロセスにおいて一貫した電気絶縁性と光学的透明性を必要とする用途に不可欠です。
サファイアウェハー Al2O3 Cプレーン (0001) 10x5x0.5 mm 用途
エレクトロニクス
- 一貫した結晶方位を利用して高い信号安定性を達成するため、半導体センサー製造の基板として使用。
- RFフィルターアセンブリの誘電体層として使用し、その効果的な電気絶縁特性を利用して信号干渉を低減する。
工業用
- 光学測定システムの校正標準として使用され、その均一な厚みと光学的透明性を利用して正確な寸法分析を保証します。
サファイアウェハー Al2O3 Cプレーン (0001) 10x5x0.5 mm 梱包
各ウエハーは、機械的損傷や汚染を防ぐために設計された帯電防止クッション容器に個別に固定されています。湿気のない環境を維持するため、乾燥剤を内蔵した密封プラスチックパウチに封入されています。熱ストレスを防ぐため、温度管理された場所での保管をお勧めします。ご要望に応じて、ラベル付きコンパートメントや特殊な緩衝材を含むカスタムパッケージングオプションをご利用いただけます。
よくある質問
Q1: (0001)オリエンテーションの意味を教えてください。
A1: (0001)方位は、一貫した光学的および電気的特性に不可欠な均一な結晶面を定義します。この配向は、基板の挙動のばらつきを最小限に抑えるもので、精密な研究や工業的な製造プロセスにとって重要です。
Q2: 指定された寸法は、プロセス統合にどのような影響を与えますか?
A2: 10x5 mmのサイズと0.5 mmの厚さは、標準的な半導体プロセス装置と整合しており、効率的な取り扱いが容易で、成膜、エッチング、その他の製造工程で一貫した結果が得られます。
Q3: 製造中、どのような品質管理が行われていますか?
A3: スタンフォード・アドバンスト・マテリアルズでは、欠陥の検出や寸法精度の検証のために、SEMやAFMスキャンなどの体系的な表面分析技術を採用しています。 これらの管理は、結晶基板アプリケーションの厳しい要件をウェハーが一貫して満たすことを保証するのに役立っています。
追加情報
Al2O3単結晶からなるサファイアウェーハは、様々な電子・光電子デバイス用基板開発の基礎となっています。高い電気絶縁性と光学的透明性を含む固有の特性により、正確な材料挙動が不可欠な環境において好ましい選択肢となっています。制御された成長プロセスと厳密な表面検査は、欠陥密度の最小化に貢献している。
材料科学の広い文脈では、このような基板は、薄膜の成膜や半導体部品の製造に安定したプラットフォームを提供する。結晶方位と寸法精度に重点を置くことで、研究と製造の進歩をサポートし、電子システムの高性能化と統合を可能にしている。