サファイアウエハ Al2O3 Mプレーン 10x10x1.0 mm 説明
サファイアウェハーAl2O3 Mプレーン10x10x1.0 mmは、高純度酸化アルミニウム(Al2O3)から製造され、Mプレーン配向を有し、精密な結晶学的特性を必要とする用途に最適化されています。このウエハーの寸法は、標準的な加工装置との互換性を保証する一方、制御された厚さと平坦性は、光学および半導体環境での性能向上に役立ちます。また、固有の硬度と化学的不活性は、その後のエピタキシャル成長の安定したベースとして機能し、欠陥の伝播を最小限に抑えます。
サファイアウェハー Al2O3 Mプレーン 10x10x1.0 mm 用途
エレクトロニクス
- LEDデバイスの基板として使用され、ウェーハの一貫した結晶方位を利用して均一な発光を実現します。
半導体プロセス
- 高い熱伝導性と寸法安定性を利用して熱管理を最適化するため、デバイス製造時のキャリアウェーハとして使用されます。
光学部品
- 化学的に不活性で滑らかな表面特性によりシグナルインテグリティを向上させるため、光学センサーアセンブリのベースとして使用されます。
サファイアウェハー Al2O3 Mプレーン 10x10x1.0 mm 梱包
ウェハは、機械的衝撃を吸収するための発泡クッションを備えた静電気放散性容器に個々に固定されています。微粒子汚染や静電気放電を防ぐため、静電気防止袋で密封されています。包装は、温度と湿度が管理された環境での保管用に設計されています。特定の取り扱いおよび出荷要件を満たすために、カスタム・ラベリングおよびコンパートメント化されたパッケージング・オプションをご利用いただけます。
よくある質問
Q1: Mプレーンの向きは、デバイスの性能にどのような影響を与えますか?
A1: M面方位は、エピタキシャル層成長の均一性を高めるユニークな結晶学的表面を提供します。その結果、膜の密着性が向上し、欠陥密度が減少するため、より精密なデバイス製造が容易になり、半導体や光学用途に役立ちます。
Q2: ウェハーの推奨保管条件を教えてください。
A2: ウェハーは、吸湿や熱ストレスを防ぐため、清潔で温度管理された低湿度の環境で保管する必要があります。 機械的損傷や汚染リスクを軽減するため、適切な帯電防止とクッション梱包が不可欠です。
Q3: ウェハー寸法や表面仕上げのカスタマイズは可能ですか?
A3: はい、SAM では、厚さ、横方向寸法、表面仕上げの調整など、限定的なカスタマイズオプションを提供しています。技術的なレビューにより、どのような変更も、高度な製造環境に必要なプロセス互換性要件に準拠していることを確認します。
追加情報
酸化アルミニウム(Al2O3)の結晶であるサファイアは、高い熱伝導性、化学的不活性、機械的硬度で知られています。これらの特性により、過酷な使用条件下でも安定した性能を要求される用途に適しています。また、その光学的透明性と電気絶縁特性は、さまざまな高精度電子機器での使用を容易にしている。
Al2O3基板を支える材料科学を理解することは、需要の高い産業用および研究用アプリケーションにおいて、次のレベルの集積化を実現するためのプロセスパラメーターの最適化に役立ちます。