サファイアウエハ Al2O3 (11-02) 10x5x0.5 mm の説明
サファイアウェハーAl2O3 (11-02) 10x5x0.5 mmは、10mm x 5mm x 0.5mmの単結晶アルミナ基板で、結晶方位は(11-02)です。欠陥密度が低く、化学組成が制御されているため、不純物レベルが最小限に抑えられている。これらの特性は、均一な成膜をサポートし、半導体製造や光学デバイス組立における性能の一貫性を高めます。
サファイアウェハー Al2O3 (11-02) 10x5x0.5 mm 用途
エレクトロニクス用途
- 集積回路の絶縁基板として使用され、制御された結晶方位と熱安定性を利用して誘電損失を低減し、回路性能の向上をサポートします。
光学システム
- 光学センサーアセンブリの透明窓として使用され、その均一な表面仕上げを利用して光の散乱を抑制し、動作中の画像の鮮明度の向上に貢献します。
サファイアウェハー Al2O3 (11-02) 10x5x0.5 mm パッケージング
ウェハーは、汚染を防ぐために、静電放電性、抗スクラッチフォームホルダーに梱包され、帯電防止袋に密封されています。特定のラボの取り扱いプロトコルに適合するよう、カスタマイズされたラベル付けや容器の変更などの追加オプションもご利用いただけます。
よくある質問
Q1: (11-02)の方向性は、デバイス製造における材料統合にどのような影響を与えますか?
A1: (11-02)配向は、半導体プロセスにおける一貫した成膜をサポートする均一な原子配列を提供し、デバイス統合時のばらつきを低減します。
Q2: ウェーハ表面の品質評価にはどのような分析方法が推奨されますか?
A2: 表面欠陥や粗さの評価には、走査型電子顕微鏡や原子間力顕微鏡が一般的に用いられます。これらの方法は、ウェハーが厳格な製造公差を満たしていることを確認するのに役立ちます。
Q3: 結晶学的完全性を変えることなく、ウェーハ寸法を調整することは可能ですか?
A3: 基板の結晶学的特性を維持したまま、カスタム寸法を提供することができます。テクニカル・サポートと調整することで、どのような変更も確立された加工標準に沿うようにすることができます。
追加情報
アルミナ(Al2O3)基板は、高温電子処理と光学用途の両方で広く使用されています。この材料の化学的不活性と様々な熱条件下での安定性は、一貫した性能が重要な環境での使用を支えています。
結晶方位と化学組成の関係を理解することは、基板の性能を最適化する上で重要な役割を果たします。詳細な分析と標準的な品質管理プロトコルは、半導体製造と精密光学の進歩に貢献し、製造されたデバイスの全体的な信頼性を高めます。