サファイアウエハ Al2O3 (0001) 100 mm 径 x 0.65 mm 説明
サファイアウェハーAl2O3 (0001) 100 mm Dia. x 0.65 mmは、(0001)面方位の高純度酸化アルミニウムからなり、一貫した結晶学的整列を保証します。直径100mm、厚さ0.65mmのウェハは、標準的な半導体プロセス装置との互換性をサポートします。制御された製造により、欠陥を最小限に抑え、寸法精度を維持し、化学的不活性と熱安定性を必要とするデバイスの基板用途に適しています。
サファイアウェハー Al2O3 (0001) 100 mm 径 x 0.65 mm 用途
エレクトロニクス用途
- 半導体デバイスの基板として使用され、ウェーハの高い熱伝導性を利用して効率的な放熱を実現します。
- RF回路の絶縁層として使用し、誘電特性を利用して信号の歪みを抑制します。
産業用途
- センサーアセンブリの部品として使用され、正確な(0001)方位を利用して寸法安定性を実現します。
- 高温処理装置に使用され、Al2O3の化学的不活性を利用して構造的完全性を維持します。
サファイアウェハー Al2O3 (0001) 100 mm Dia. x 0.65 mm Packing
ウェハーは、静電気のない汚染防止パウチに個々に密封され、硬質コンテナ内の発泡裏地付きキャリアに緩衝材を入れます。化学的劣化を防ぐため、水分バリア材料が組み込まれています。包装は、低湿度、温度調節された環境での管理された輸送と保管のために設計されています。コンパートメント化や特定のラベリング要件など、ご要望に応じたカスタムパッケージングソリューションもご利用いただけます。
よくある質問
Q1: (0001)方向はどのように確認されますか?
A1: 方位は、結晶構造を正確にマッピングするX線回折分析によって確認されます。このプロセスにより、ウェハーが先端基板アプリケーションに要求される厳格なアライメント基準を満たすことが保証されます。
Q2: 取り扱いや保管にはどのような注意が必要ですか?
A2: ウェハーはクリーンルーム内で取り扱い、温度管理された低湿度の環境で保管する必要があります。表面汚染や機械的損傷を防ぐために、帯電防止対策と保護包装が不可欠です。
Q3: 高熱負荷アプリケーションに使用できますか?
A3: はい。Al2O3の化学的不活性と効率的な熱伝導性により、このウェハは高熱負荷条件下でも性能を発揮します。管理された製造により、欠陥密度を最小限に抑え、高温動作時の安定性を確保しています。
追加情報
サファイアウェーハは、その卓越した物理的特性と化学的安定性により、半導体の研究および製造に不可欠な基板材料です。Al2O3固有の硬度と熱伝導性は、様々な産業における精密なデバイス製造と高温処理を容易にします。XRDや電子顕微鏡などの詳細な材料特性評価法は、ウェハーの結晶構造や性能限界の理解に貢献しています。
基板技術のより広範な発展により、ウェーハ加工技術が改善され、表面品質と寸法精度の両方が向上しました。成膜・研磨法の進歩は、サファイアウェーハの安定生産にとって極めて重要であり、エレクトロニクスやオプトエレクトロニクスなどの分野における重要な研究イニシアチブと産業応用を支えています。