サファイアウェハー Al2O3 (0001) Dia.2 インチ x 0.43 mm 説明
サファイアウェハー Al2O3 (0001) Dia.2 inch x 0.43 mmは、厳密な(0001)結晶方位を保証するために制御された合成技術を用いて製造された酸化アルミニウム基板です。正確な直径2インチと厚さ0.43mmは、エピタキシャル成長をサポートしながら、標準的な半導体プロセスツールとの互換性を可能にします。その高い構造均一性は、プロセスのばらつきを最小限に抑え、重要な研究および生産アプリケーションをサポートします。
サファイアウェハー Al2O3 (0001) Dia.2インチ x 0.43 mm 用途
エレクトロニクス
- 半導体デバイスの絶縁基板として使用し、高い電気抵抗を利用して寄生伝導の低減を実現する。
オプトエレクトロニクス
- ウェーハの原子レベルで平滑な表面を利用して均一な発光を実現するため、LEDやレーザー構造のベースとして使用される。
産業用
- センサー製造の精密プラットフォームとして使用され、寸法の均一性を活かして安定した信号特性を実現する。
サファイアウェハー Al2O3 (0001) Dia.2インチ×0.43mm 梱包
ウェハは、物理的な損傷や粒子汚染を最小限に抑えるため、不活性ガスで密封されたパウチ内の帯電防止、発泡裏地付きキャリアに封入されています。表面品質を保つため、乾燥した温度管理された環境での保管をお勧めします。特殊な取り扱い要件を満たすため、技術的な検討の上、追加の緩衝材や特定の容器材料など、特注の包装オプションもご利用いただけます。
よくある質問
Q1: (0001)結晶方位の検証にはどのような技術が使用されますか?
A1: (0001)方位を確認するためにX線回折分析を行い、表面の均一性を光学顕微鏡で確認します。これらの技術は、デバイスの統合に影響を与える可能性のあるあらゆる偏差を検出するのに役立ちます。
Q2: 直径2インチ、厚さ0.43mmという規格寸法は、加工互換性にどのようなメリットをもたらしますか?
A2: 標準的な直径2インチと正確な厚さ0.43mmは、ウェハーが一般的な半導体処理装置に適合することを保証し、生産環境における均一な成膜とエッチングプロセスを容易にします。
Q3: ウェーハの厚みや方向に関するパラメーターのカスタマイズは可能ですか?
A3: SAMは、技術的な要求事項の変更を検討します。製造プロトコルに基づき、厚みの調整、または向きの小さな変更を評価し、製造標準と互換性がある場合、オーダーメイドのソリューションを提供します。
追加情報
酸化アルミニウム(Al2O3)は、その高い硬度、熱安定性、優れた絶縁特性で知られる、よく研究された材料です。その結晶構造は、熱的・機械的ストレスへの耐性が要求される用途で威力を発揮し、半導体や光学デバイスの製造において一般的な選択肢となっています。
材料加工の進歩により、サファイア・ウェーハの製造は洗練され、結晶方位と厚さを正確に制御できるようになりました。この進歩は、一貫性と寸法精度が重要な高性能研究、産業用途、電子システムへのこのような基板の統合をサポートしています。