サファイアウェハー Al2O3 Rプレーン Dia.2 インチ x 0.5 mm 説明
サファイアウエハ Al2O3 R Plane Dia.2 inch x 0.5 mmは、高品位酸化アルミニウムから製造され、明確なR面結晶方位が特徴です。直径2インチ、厚さ0.5mmは、標準的な半導体および光学処理装置との互換性を保証します。このウエハーは、滑らかな表面仕上げと制御された欠陥密度が特徴で、散乱を最小限に抑え、高い光学的透明性と機械的堅牢性を必要とするデバイスの性能を向上させます。
サファイアウェーハ Al2O3 R Plane Dia.2 インチ x 0.5 mm 用途
1.エレクトロニクスおよび半導体製造
- Al2O3の化学的不活性を利用して安定した熱的・電気的特性を達成するため、集積回路の基板として使用。
- 平坦な表面と制御された欠陥密度の利点を生かし、オプトエレクトロニクスデバイスの薄膜蒸着用ベースとして使用。
2.産業および研究用機器
- 高い融点と化学的安定性を利用して安定した性能を達成するため、工業用監視システムの高温センサーのプラットフォームとして使用される。
- 研究室では、透明度を最大限に高め、光の散乱を最小限に抑えるため、光学実験によく使用される。
サファイアウェハー Al2O3 R 面 直径.2 インチ x 0.5 mm 梱包
ウェハーは、静電気防止ホルダーに個包装され、微粒子の侵入や機械的損傷から保護するため、耐湿性、汚染防止材料で密封されています。表面品質を保つため、乾燥した温度管理された環境での保管を推奨します。クッションインサートやラベリングなどのカスタムパッケージングオプションは、デリケートな加工環境における特定の取り扱い要件に合わせてご利用いただけます。
よくある質問
Q1: R面方位は、プロセスアプリケーションにおけるウェーハの性能にどのような影響を与えますか?
A1: R面方位は、平坦性を高め、欠陥密度を低減する特定の表面結晶学的性質を提供します。この方位は、均一な界面を確保し、エッチングや研磨の際の凹凸を最小限に抑えることで、高精度の薄膜蒸着や光学用途をサポートします。
Q2: 出荷時の保管について教えてください。
A2: ウェーハは、湿度が低く、周囲温度が安定している管理された環境で保管する必要があります。出荷時や保管時の機械的な損傷や汚染を防ぐために、静電気除去パウチや発泡裏地付き容器などの保護包装が不可欠です。
Q3: 厚さ公差0.5mmは、大量注文でも安定して維持できますか?
A3: はい、製造工程では、光学計測と形状測定による精密な厚み管理と定期的な校正を行っています。このような方法により、厚みのばらつきを最小限に抑えることができます。これは、大規模な半導体加工において性能の一貫性を維持するために極めて重要です。
追加情報
サファイア(酸化アルミニウム)は、その高い融点、化学的不活性、機械的強度が評価されています。これらの要因により、サファイアは高温環境や光学デバイスの基板に不可欠な材料となっています。また、これらのウェハーを製造するために使用される結晶成長技術は、内部応力の低減に寄与し、それによって先端的な電子・光応用における安定性を高めている。
サファイアウェーハの材料特性と製造方法を理解することは、エンジニアや研究者にとって極めて重要です。結晶方位と表面特性の関係は、半導体製造から光センサー開発に至るまで、多様な用途におけるウェーハ性能を決定する上で重要な役割を果たしている。