サファイアウェハー Al2O3 (0001) 100 mm 径 x 0.9 mm 説明
サファイアウェハーAl2O3 (0001) 100 mm Dia. x 0.9 mmは、正確な(0001)面方位を持つ高純度アルミナ基板です。直径100mm、厚さ0.9mmは、標準的な半導体プロセス装置の要件を満たしています。このウェハは、低粗さと最小の欠陥を保証するために高度な表面分析を受けており、これにより、厳しい平坦度と寸法精度を必要とする用途での性能を高めています。
サファイアウェーハ Al2O3 (0001) 100 mm 径 x 0.9 mm 用途
電子・半導体用途
- 半導体デバイス製造の基板として使用され、パターン解像度を向上させるために表面の凹凸を最小限に抑え、精密なフォトリソグラフィーを実現します。
- 高周波回路のベースとして使用され、安定した電気絶縁特性を利用して誘電体の一貫性を管理します。
工業用途
- パワーエレクトロニクスの絶縁部品として、その高い熱伝導性と最小の欠陥密度を利用して熱安定性を維持します。
オプトエレクトロニクス
- 光学的透明性と構造的完全性を生かし、均一な発光を確保するためにLED製造の支持層として使用されます。
サファイアウェハー Al2O3 (0001) 100 mm Dia. x 0.9 mm Packing
各ウエハーは、クリーンルーム仕様の帯電防止パウチに個別に封入され、クッション性のある発泡裏地付きキャリアに固定されています。梱包は、表面汚染や機械的損傷を防ぐため、不活性環境を維持します。保管ガイドラインでは、温度と湿度が管理された環境を推奨しています。特定の保管および出荷プロトコルに対応するため、カスタムラベルの貼付や容器の変更も可能です。
よくある質問
Q1: 基板の表面仕上げは、プロセス性能にどのような影響を与えますか?
A1: 表面仕上げは、フォトリソグラフィーの結果とその後の成膜に直接影響します。均一で滑らかな表面は、散乱や凹凸を最小限に抑え、デバイス製造におけるプロセスの一貫性を高めます。
Q2: ウェハー保管時の環境条件は?
A2: ウェハーは、温度管理された低湿度の環境で保管する必要があります。このような環境は、表面の完全性を維持し、汚染を防ぐのに役立ちます。
Q3: 品質管理はどのように行われますか?
A3: 品質管理には、原子間力顕微鏡による定量的な表面粗さ測定と走査型電子顕微鏡による欠陥検査が含まれます。 これらの評価により、厳格な製造基準とプロセス仕様の遵守が保証されます。
追加情報
サファイア(単結晶酸化アルミニウム(Al2O3))は、その硬度と高い熱安定性で広く知られています。この材料の結晶構造は、高性能電子・光電子デバイスに最適なプラットフォームを提供します。その基板への使用には、高温処理中の平坦性と表面の均一性を維持するための厳格な品質管理が必要である。
材料科学という広い観点から見ると、サファイア・ウェーハは、最先端の半導体およびフォトニック・デバイス製造において重要な構成要素である。安定した電気的・光学的特性を提供しながら、過酷な加工環境に耐えるその能力は、研究および大量生産の両方の場面でその重要性を強調しています。