片面研磨フッ化カルシウムCaF2結晶基板(100)10x10x1.0 mm 説明
高純度のフッ化カルシウム(CaF2)から製造されたこの基板は、結晶方位が(100)であり、片面が研磨され、きめ細かく仕上げられた表面となっています。寸法は10x10mm、厚さは1.0mmで、標準的な半導体プロセスや光学アセンブリとの互換性を保証します。制御された結晶成長プロセスは介在物を最小限に抑え、高度な研磨方法は表面の平坦性を高め、フォトリソグラフィや精密光学システムへの応用に役立ちます。
片面研磨フッ化カルシウム CaF2 結晶基板 (100) 10x10x1.0 mm 用途
エレクトロニクスおよび半導体デバイス
- 半導体検査装置の光学窓として使用され、その低屈折率と明確な平坦性を利用して安定した光透過を実現します。
光学機器
- 制御された表面研磨と寸法安定性を利用してビーム品質を維持するために、レーザー組立部品の基板として使用されます。
片面研磨フッ化カルシウム CaF2 結晶基板 (100) 10x10x1.0 mm 包装
基板は、機械的衝撃とコンタミネーションのリスクを軽減するため、静電気防止クッション付きキャリアに個別に固定されています。温度管理された環境内で、防湿包装で保管されます。表面保護強化のため、不活性ガスパージなどの追加措置も可能です。特定の保管および取り扱い要件を満たすために、コンパートメント化されたインサートや特殊なラベリングなどのカスタムパッケージングオプションもご利用いただけます。
よくある質問
Q1: 基板表面の均一性は、どのような品質管理で確認されますか?
A1: SAMでは、生産時に干渉計による表面測定と光学的平坦度測定を実施しています。これらのステップにより、研磨面が精密光学および半導体用途に必要な厳格な寸法公差に準拠していることが保証されます。
Q2: (100)方位は基板の機能性にどのような影響を与えますか?
A2: (100)結晶方位は、均一な成膜とデバイス製造における正確な光学性能に不可欠な、一貫した構造アライメントを確立します。
Q3: 基板の完全性を維持するための保管条件を教えてください。
A3: 帯電防止包装を使用し、温度管理された低湿度環境で基板を保管することをお勧めします。これにより、吸湿を防ぎ、物理的損傷のリスクを最小限に抑えることができます。
追加情報
フッ化カルシウム(CaF2)基板は、紫外から赤外までの波長を最小限の分散で透過させる能力により、光学システムに不可欠です。そのユニークな結晶構造は、低い複屈折と高い化学的不活性を提供し、精密フォトニクス用途に適しています。最近の結晶成長と表面研磨技術の改良により、これらの基板の再現性と性能が向上している。
表面特性評価と計測の進歩は、製造プロトコルをさらに洗練させ、物理的寸法と表面仕上げが光学および半導体産業の厳しい要求を満たすことを保証している。これらの開発は、デバイス性能の向上と、研究・生産の両環境における応用可能性の拡大に寄与している。