両面研磨フッ化カルシウムCaF2結晶基板(111)10x10x1.0 mm 説明
両面研磨フッ化カルシウムCaF2結晶基板(111)10x10x1.0 mmは、高純度CaF2から製造された光学グレードの基板です。結晶方位が(111)であるため、光学および半導体デバイス試験用の明確な平面が得られます。 両面研磨により、光の散乱を最小限に抑える滑らかな仕上げが得られます。 寸法(10mm x 10mm x 1.0mm)は、標準的な実験室および工業用処理装置との互換性を考慮して設計されています。
両面研磨フッ化カルシウム CaF2 結晶基板 (111) 10x10x1.0 mm 用途
エレクトロニクス
- レーザーアライメントシステムの光学窓として使用され、均一な両面研磨により低散乱を実現し、安定した光透過を保証します。
半導体製造
- 制御された(111)配向を利用して均一な膜成長を促進し、層の安定性を高めるため、薄膜蒸着プロセスの基板として使用されます。
光学機器
- 分光装置のサンプルホルダーとして、その滑らかな表面仕上げを利用してバックグラウンドノイズを低減し、正確な光学測定を容易にします。
両面研磨フッ化カルシウム CaF2 結晶基板 (111) 10x10x1.0 mm 梱包
基板は、機械的損傷を防ぐために発泡サポート付きの清潔な帯電防止トレイに梱包されています。汚染や湿気の浸入を防ぐため、密封プラスチックパウチに封入されています。表面の完全性を維持するため、管理された低湿度環境での保管を推奨します。特定の取り扱いおよび保管要件に対応するため、カスタム包装オプションもご利用いただけます。
よくある質問
Q1: 基板の平坦性と表面仕上げを確認するために、どのような方法がありますか?
A1: 品質管理では、光学干渉計とSEMイメージングを組み込んで表面の平坦度を評価し、微細な凹凸を検出することで、基板が光学用途に要求される厳しい公差を満たしていることを確認します。
Q2: 両面研磨は、基板の光学性能にどのような影響を与えますか。
A2: 両面研磨は、表面欠陥と散乱損失を最小限に抑えるため、高感度な電子・光学評価システムにおいて、より鮮明な光透過率とより正確な試験結果を得ることができます。
Q3: CaF2基板の推奨保管条件を教えてください。
A3: 基板は、温度管理された低湿度の環境で保管する必要があります。汚染を防ぎ、長期にわたって基板の表面品質を維持するためには、清潔な密封包装を維持することが重要です。
追加情報
フッ化カルシウム(CaF2)は、紫外から赤外スペクトルにおいて優れた透明性を示し、光学機器やレーザー用途において貴重な材料となっています。化学的に不活性で屈折率が低いため、光の吸収や散乱を最小限に抑えることができ、高性能な光学機器に不可欠です。
CaF2の材料特性とその制御された結晶方位を理解することは、光学および半導体分野の研究者にとって不可欠である。両面研磨基板を使用することで、滑らかな界面が確保され、産業および学術環境における試験装置や処理装置の性能を大幅に向上させることができる。