片面研磨フッ化カルシウムCaF2結晶基板(100)10x10x0.5 mm 説明
片面研磨フッ化カルシウムCaF2結晶基板(100)は、10x10x0.5 mmの正確な寸法です。片面研磨により、表面仕上げが制御され、粗さが最小限に抑えられ、光学的透明度が向上します。CaF2は化学的に不活性であるため、高解像度の光学システムや半導体システムなど、低干渉性が要求される環境に適しています。この基板は、精密工学用途に不可欠な均一性を維持するため、厳格な品質管理の下で製造されています。
片面研磨フッ化カルシウムCaF2結晶基板(100)10x10x0.5 mm 用途
1.電子工学および半導体
- レーザーモジュールの誘電体部品として使用され、低光損失を生かした安定した信号伝送を実現します。
- センサーアレイの基板として使用し、均一な表面特性を活かして信号の忠実度を向上させる。
2.光学デバイス
- 分光装置の光学窓として使用され、低屈折率変化を利用して正確な光の通過を実現する。
- 精密光学アセンブリーの素子として使用され、その制御された研磨と平坦性を利用して、イメージング性能を向上させる。
片面研磨フッ化カルシウム CaF2 結晶基板 (100) 10x10x0.5 mm 包装
基板は、機械的衝撃と汚染を最小限に抑えるために、帯電防止、発泡裏地付き容器に梱包されています。表面の完全性を維持するため、防塵パウチに密封され、管理された周囲条件下で保管されます。輸送中の保護措置としては、緩衝材と硬質外装があります。プロジェクト要件に基づき、カスタマイズされたラベリングやコンパートメント化のオプションもご利用いただけます。
よくある質問
Q1: ワンサイドポリッシュでは、どのような表面仕上げ品質が期待できますか?
A1: ワンサイドポリッシュプロセスは、正確な光学的透明性と最小限の散乱を必要とする用途に不可欠な、制御された粗さの均一な表面仕上げをもたらします。
Q2: (100)結晶方位は性能にどのように寄与しますか?
A2: (100)結晶方位は、基板全体で一貫した光学的および電子的特性を提供し、精密光学および半導体デバイスの安定した性能をサポートします。
Q3: 基板の取り扱いについて教えてください。
A3: 帯電防止工具を使用し、クリーンルーム環境で取り扱うことを推奨します。埃のない温度管理された環境で適切に保管することで、汚染や機械的損傷を最小限に抑えることができます。
追加情報
フッ化カルシウム(CaF2)基板は、光学的透明性と最小限の光吸収が重要な分野で不可欠です。その低屈折率と化学的不活性は、分光学や高精度光学アセンブリのアプリケーションをサポートします。このような基板は、表面の均一性と寸法の一貫性を確保するため、高度な計測技術で評価されることが多い。
材料科学では、基板の研磨と結晶方位を注意深く制御することが、半導体や光学デバイスの集積化に直接影響します。干渉計と表面形状測定法を用いた包括的な特性評価により、基板が高性能アプリケーションに要求される仕様を正確に満たしていることが保証されます。