片面研磨フッ化カルシウム CaF2 結晶基板 (111) 10x10x1.0 mm 説明
この基板は、結晶方位が(111)の高純度CaF2から製造され、片面研磨面が特徴です。 10x10x1.0mmの寸法は、標準的な光学アセンブリプロセスとの統合を容易にします。研磨面は散乱損失を最小限に抑え、光学的透明度を高めるため、高精度光学測定に適しています。 この材料の化学的不活性と安定性は、管理された実験室や産業環境での有用性をさらに広げます。
片面研磨フッ化カルシウム CaF2 結晶基板 (111) 10x10x1.0 mm 用途
1.
光学機器
- CaF2の高い透過率を利用して低吸収を達成するため、分光システムの光学窓として使用。
- レーザー光学部品の基板として、均一な(111)方位を利用してビーム品質を維持するために使用される。
2.
半導体・検査装置
- 片面研磨の滑らかな表面を活かして、正確なアライメントを実現する半導体計測機器の精密プラットフォームとして使用される。
- 高解像度イメージング・システムのサンプル・ホルダーとして使用され、基板の低欠陥密度を利用して反射特性を制御する。
片面研磨フッ化カルシウム CaF2 結晶基板 (111) 10x10x1.0 mm 梱包形態
この基板は、機械的損傷や汚染による損傷を防ぐため、クッションインサート付きの静電気放散性耐湿性容器に個別に梱包されています。湿度や微粒子の侵入を防ぐため、清潔で温度制御された環境で保管されます。特定の取り扱いおよび輸送要件を満たすために、真空密封パウチや帯電防止フォームなどのカスタムパッケージングオプションもご利用いただけます。
よくある質問
Q1: CaF2基板の(111)配向の意味は何ですか?
A1: (111)方位は、内部散乱を減少させる均一な結晶構造を保証します。これは、光の一貫した伝搬が要求され、欠陥を最小限に抑えなければならない光学用途では非常に重要です。
Q2: 片面研磨表面は光学用途にどのようなメリットがありますか?
A2: 片面研磨表面は、光学的に滑らかな仕上げを提供し、光の散乱を最小限に抑え、透過効率を高めます。この表面品質は、精密光学測定や部品統合に不可欠です。
Q3: どのような保管条件が推奨されますか?
A3: 基板は、室温に制御された清潔で湿度の低い環境で保管する必要があります。防湿包装と静電散逸性材料を使用することで、長期にわたって表面の完全性と光学特性を維持することができます。
追加情報
フッ化カルシウム(CaF2)基板は、その優れた紫外線透過特性と低屈折率により、光学システムに広く使用されています。その化学的不活性と安定性は、様々な環境条件下での潜在的劣化を低減します。これらの特性により、CaF2材料は高性能光学部品や重要な研究機器に特に適している。
CaF2基板の製造と処理には、高度な研磨技術と厳密な表面検査が必要です。結晶方位と表面仕上げを理解することは、分光学から半導体検査まで幅広い用途で重要な役割を果たし、材料科学者やプロセスエンジニアに不可欠な洞察を提供します。