両面研磨フッ化カルシウム CaF2 結晶基板 (100) 10x10x1.0 mm 説明
両面研磨フッ化カルシウムCaF2結晶基板(100)10x10x1.0 mmは、結晶方位が(100)のCaF2から製造され、両面とも表面が研磨されています。厚さ1.0mmで10x10mmの寸法は、標準的な加工装置との互換性を保証します。低吸収・高透過特性により、要求の厳しい光学用途や半導体プロセスに適しており、両面研磨により散乱を最小限に抑え、光学性能の向上に寄与します。
両面研磨フッ化カルシウム CaF2 結晶基板 (100) 10x10x1.0 mm 用途
光学機器
- レンズシステムの基板として使用され、両面研磨面を利用して光の散乱を低減します。
- 干渉計セットアップの部品として使用され、高い平坦度を活かして波面の均一性を向上させます。
半導体製造
- CaF2の化学的不活性を利用してコンタミネーションコントロールを達成するため、プロセス装置のウェハーキャリアとして使用。
- センサー製造では、その滑らかな研磨仕上げを活かして、安定性を維持し、表面異常を防止するために使用されます。
両面研磨フッ化カルシウム CaF2 結晶基板 (100) 10x10x1.0 mm 包装
基板は、機械的損傷や環境汚染から保護するため、静電気防止発泡裏地付きキャリアに個々に固定され、耐湿性プラスチックで密封されています。基板は、温度と湿度が管理された環境で保管することを推奨します。厳密な取り扱いや保管条件を必要とする用途には、真空シールや特定の区画分けを含むカスタムパッキングソリューションがご利用いただけます。
よくある質問
Q1: 基板の品質評価には、どのような表面検査方法が使用されますか?
A1: SAMでは、電子顕微鏡を使用して表面の平坦度を検査し、研磨に起因する欠陥を検出することで、基板が光学性能に必要な公差を満たしていることを確認しています。
Q2: 両面研磨は、基板の光学特性にどのような影響を与えますか?
A2: 両面研磨は散乱を最小限に抑え、透過光の均一性を向上させます。これは干渉計や光センサー用途での正確な測定に不可欠です。
Q3: 結晶基板はどのような保管条件が推奨されますか?
A3: 吸湿や表面汚染を防ぐため、静電気防止包装を施し、乾燥した温度管理された環境で保管してください。
追加情報
フッ化カルシウム(CaF2)は、優れた光学的透明性と化学的不活性を示し、これは高度な光学および半導体用途において重要な特性です。その結晶特性と制御された配向性は、光散乱を低減し、高分解能光学システムの性能を最適化します。
最新のデバイスにおけるCaF2基板の利用は、レンズ、レーザー、干渉計などのシステムにおける安定性と機能性の向上を促進します。研磨と表面処理技術の継続的な進歩は、これらの基板の性能を向上させ続け、精密光学工学と研究用途におけるその重要性を強調している。