両面研磨フッ化カルシウムCaF2結晶基板(111)10x10x0.5 mm 説明
両面研磨フッ化カルシウムCaF2結晶基板(111)10x10x0.5 mmは、光学用途向けに設計されたフッ化カルシウム基板です。10x10mm、厚さ0.5mmの寸法は、標準的な光学アセンブリとの互換性を保証します。(111)結晶方位と両面研磨により、光の散乱を最小限に抑える均一な表面が得られ、研究および産業環境における精密光学測定や計測に適しています。
両面研磨フッ化カルシウム CaF2 結晶基板 (111) 10x10x0.5 mm 用途
光学機器
- CaF2の低吸収特性を利用し、光分散の低減を実現するため、紫外分光システムの光学窓として使用。
- イメージングデバイスの基板として使用することで、迷光を抑制し、空間分解能を向上させます。
半導体検査
- 検査システムの高感度検出器の保護カバーとして使用され、均一な表面仕上げにより透明度を維持します。
- 欠陥の少ない平坦な表面が正確な測定に重要な校正セットアップに使用されます。
両面研磨フッ化カルシウムCaF2結晶基板(111)10x10x0.5 mm 梱包
基板は、機械的な損傷や汚染を防ぐため、帯電防止、耐湿性のパウチに個別に封入され、クッション性のある硬質容器に固定されています。保管中は周囲をクリーンルームに保つことを推奨します。特定の取り扱い要件を満たすために、真空シールや特殊ラベルを含むカスタムパッケージングオプションをご利用いただけます。
よくある質問
Q1: 両面研磨は、基板の光学性能にどのような影響を与えますか?
A1: 両面研磨は、表面の粗さを最小限に抑え、光の散乱を減らし、透過率を高めます。これは、光学的透明性と正確な光伝搬が不可欠なシステムにおいて非常に重要です。
Q2: CaF2基板の保管条件は?
A2: 基板は低湿度、温度管理された環境で保管する必要があります。表面の完全性と光学特性を維持するためには、微粒子への暴露を最小限に抑えたクリーンルーム環境が望ましいです。
Q3: (111)方位は、光学システムにおける基板の性能に影響しますか?
A3: はい、(111)結晶方位は均一な表面構造を提供し、一貫した光透過率を達成するのに役立ち、高精度の光学測定に有益な内部散乱を低減します。
追加情報
フッ化カルシウム(CaF2)基板は、紫外から赤外領域における優れた透過特性により、光学システムに広く使用されています。低屈折率変化や最小限の複屈折といったCaF2固有の特性により、高分解能光学デバイスに適した材料となっています。さらに、結晶方位は、精密光学測定に不可欠な均一な表面特性を達成する上で重要な役割を果たしている。
研究および産業環境では、基板表面の品質を詳細に制御することが最も重要である。干渉表面分析や高度な研磨プロセスなどの技術は、最新の光学部品に要求される厳しい公差を達成するのに役立ちます。このレベルの制御は、様々な動作条件下で一貫した光学性能を要求されるシステムの開発をサポートします。