片面研磨リン酸二水素カリウムKH2PO4結晶基板(100)10x5x1.0 mm 説明
高純度リン酸二水素カリウム(KH2PO4)から作製されたこの基板は、片面研磨仕上げが特徴で、光散乱を低減し、透明度を高めます。寸法は10mm x 5mm x 1.0mmで、標準的な光学システムやフォトニックシステムとの統合をサポートします。指定された(100)結晶方位は、制御されたエピタキシャル層成長を容易にし、レーザーおよび非線形光学アプリケーションの均一な界面特性を保証します。
片面研磨リン酸二水素カリウム KH2PO4 結晶基板 (100) 10x5x1.0 mm 用途
光学システム
- 非線形光学デバイスの基板として使用され、片面研磨仕上げにより散乱を低減し、ビーム伝搬を改善します。
- レーザー安定化部品に使用され、常に平坦な表面で正確な光変調を実現します。
半導体加工
- フォトニックデバイス製造におけるエピタキシャル成長用プラットフォームとして使用され、(100)結晶方位を利用して均一な層堆積を実現する。
- 制御された表面仕上げにより測定精度を向上させるため、光センサーアセンブリの診断インターフェースとして使用されます。
片面研磨リン酸二水素カリウム KH2PO4 結晶基板 (100) 10x5x1.0 mm 包装
基板は帯電防止容器に個別に梱包され、機械的損傷や汚染から保護するためにクリーンルームグレードのフィルムで包まれています。輸送中は、防湿袋がさらにユニットを保護します。包装は、乾燥した温度管理された環境での保管用に設計されており、片面研磨の表面は無傷のまま保たれます。特定の取り扱い要件に基づき、カスタム包装オプションを手配することも可能です。
よくある質問
Q1: 研磨面の平坦性を確認するために、どのような品質管理対策を実施していますか?
A1: SAMでは、光学式プロフィロメトリーと高解像度顕微鏡を使用して研磨面を評価しています。このプロセスにより、微細な凹凸を検出し、基板が光学用途の厳格な平坦度基準を満たしていることを確認します。
Q2: (100)方位は、デバイス製造における基板の性能にどのような影響を与えますか?
A2: (100)方位は、制御されたエピタキシャル成長をサポートする均一な結晶構造を提供します。これにより、後続層の欠陥を最小限に抑え、光学およびフォトニックデバイスの性能の一貫性を高めることができます。
Q3: 基板の表面品質を保つためには、どのような保管条件が推奨されますか?
A3: 基板は、帯電防止包装内の乾燥した温度管理された環境で保管することを推奨します。これにより、湿気や粒子による汚染が最小限に抑えられ、研磨表面の完全性が保たれます。
追加情報
リン酸二水素カリウム(KH2PO4)は、その光学特性について広く研究されており、フォトニック・アプリケーション用基板の製造において重要な材料です。その結晶方位、特に(100)方位は、エピタキシャル膜の成長特性を決定する上で重要な役割を果たしており、界面特性を制御することによってデバイスの性能に影響を与えます。
材料科学の分野では、研磨された基板の均一性を評価するために、光学プロフィロメトリー、顕微鏡、表面計測などの厳密な品質管理技術が不可欠である。これらの方法は、基板が厳格な仕様基準に適合していることを保証し、光デバイス製造と科学研究の進歩を支えています。