ニオブ酸タンタル酸カリウムKTN結晶基板(100)5x5x0.5 mm 説明
この基板は(100)結晶方位を持ち、寸法は5x5mm、厚さは0.5mmです。KTa1-XNbXO3として表される組成は、調整光変調および誘電体用途に不可欠な明確な材料特性を提供します。その制御された表面仕上げと平坦性は、半導体プロセスやフォトニックデバイスアセンブリへの統合をサポートします。エンジニアリングは、標準的な製造装置に適合する幾何学的精度に重点を置いています。
ニオブ酸タンタルカリウムKTN結晶基板(100)5x5x0.5 mm 用途
エレクトロニクス
- 集積回路の誘電体インターフェースとして使用され、その制御された結晶学的特性を利用して信号分離を改善する。
- センサーの薄膜蒸着用基板として使用し、均一な表面形状により安定した電気特性を得る。
オプトエレクトロニクス
- 設計された組成と基板の平坦性を利用して、制御された光伝搬を実現する光変調器の設計基盤として使用。
- レーザーシステムにおいて、一貫した結晶構造を確保することで効率的なビーム整形を促進するための取り付けプラットフォームとして使用される。
産業用システム
- パワーモジュールの絶縁層として使用され、その明確な材料特性を利用して熱的・電気的性能を管理する。
- 平滑で化学的に不活性な表面を提供することで、汚染リスクを最小限に抑えるため、マイクロエレクトロニクスのパッケージングによく使用される。
タンタル酸ニオブ酸カリウムKTN結晶基板(100)5x5x0.5 mm包装
基板は、機械的衝撃と環境暴露を最小限に抑えるため、静電気防止発泡裏地付き容器に個別に梱包されます。 保護ポリマーフィルムは表面汚染を防止し、材料の特性を維持するために温度管理された保管を推奨します。輸送や保管時の特定の取り扱い要件を満たすために、改良された緩衝材や区画化されたトレイなど、オプションのカスタム包装もご利用いただけます。
よくある質問
Q1: この基材の加工には、どのような環境条件が理想的ですか?
A1: 保管中も加工中も、温度と湿度が管理された環境を利用することをお勧めします。この方法は、熱膨張の影響を最小限に抑え、基板の表面の完全性に影響を与える汚染のリスクを低減します。
Q2: 基板の結晶方位はどのように確認されますか?
A2: 結晶方位は、高分解能X線回折と走査型電子顕微鏡を用いて評価されます。これらの測定により、重要なデバイスの集積化において許容範囲内のアライメントが保証されます。
Q3: 取り扱いにはどのような注意が必要ですか?
A3: 取り扱いの手順には、表面損傷や粒子汚染を防ぐための帯電防止手袋や工具の使用が含まれます。デバイス・アセンブリに組み込む際には、クリーン・ルーム基準を遵守することが推奨されます。
追加情報
材料科学では、結晶基板の制御開発は、特定の誘電特性と光学特性を必要とするアプリケーションにとって極めて重要です。この分野の研究では、微細な表面形状と組成の一貫性がデバイス性能に与える影響を重視しています。
X線回折や電子顕微鏡などの特性評価技術の進歩により、動作応力下での基板の挙動についての理解が深まりました。このような広範な科学的背景は、セラミック基板を高精度の産業システムや電子部品アセンブリに組み込むことをサポートしています。