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  • CY11154 パラジウム(Pd)コートガラス

    • CY11154 パラジウム(Pd)コートガラス

    カタログ番号 CY11154
    素材 パラジウム、ガラス
    純度 パラジウム：99.95%以上
    フォーム 基板

    パラジウム（Pd）コーティングガラスは、制御されたスパッタリングプロセスにより成膜されたパラジウム薄膜を特徴とするガラス基板です。スタンフォード・アドバンスト・マテリアルズ(SAM)社は、製造工程で厳格な走査型電子顕微鏡検査と密着試験を社内で実施し、膜の均一性とコーティングの完全性を監視しています。SAMの技術的アプローチは、パラジウム層が半導体原料の特定の運用基準を満たすことを保証し、さらなる加工に一貫した不活性表面を提供します。

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    FAQ

    パラジウム・コーティングにはどのような接着試験が行われるのですか？

    コーティングは、均一性と膜の完全性を評価するために、定量的なテープ試験と顕微鏡試験を受けます。これらの試験により、パラジウム層が半導体用途の要求仕様を満たしていることが確認されます。

    パラジウム層は、半導体プロセスにおける基板の性能にどのような影響を与えるのか？

    パラジウム層は導電性かつ化学的に不活性なバリアとして機能する。これにより、酸化や汚染が最小限に抑えられ、半導体製造の高温処理中に安定した界面が確保される。

    パラジウム・コーティングの厚さを調整することは可能ですか？

    はい、蒸着パラメータを調整することで、ご希望の膜厚を得ることができます。特定のプロセス要件に合わせたカスタマイズオプションの詳細については、お問い合わせください。

    最終推奨

    Lithium Niobate Wafers (LiNbO3 Wafers)
    CY0066 ニオブ酸リチウムウェーハ（LiNbO3ウェーハ）
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    sc/1751898305-NR0103.jpg
    NR0103 窒化ケイ素粉末 (CAS No.12033-89-5)
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    Nano Silicon Nitride (Si3N4) Powder (CAS No. 12033-89-5)
    NN0219 ナノ窒化ケイ素 (Si3N4) 粉末 (CAS No. 12033-89-5)
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    Micro Silicon Nitride (α-Si3N4) Powder (CAS No. 12033-89-5)
    NR0220 マイクロ窒化ケイ素 (α-Si3N4)パウダー (CAS No. 12033-89-5)
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    Micro Silicon Nitride (β-Si3N4) Powder (CAS No. 12033-89-5)
    NR0221 マイクロ窒化ケイ素 (β-Si3N4)パウダー (CAS No. 12033-89-5)
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    Nano Silicon Oxide (SiO2) Powder CAS NO. 7631-86-9
    OX0283 ナノ酸化ケイ素 (SiO2) 粉末 (CAS 番号: 7631-86-9)
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    Micro Silicon Oxide (SiO2) Powder (CAS No.7631-86-9)
    OX0284 マイクロ酸化ケイ素 (SiO2) 粉末 (CAS No.7631-86-9)
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    https://www.samaterials.com/images/sc/1765955766-normal-SC0892-1.jpg
    SC0892 高純度炭化ケイ素粉末（SiC粉末） (CAS No.409-21-2)
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