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  • CY11156 イリジウム（Ir）コートガラス

    • CY11156 イリジウム（Ir）コートガラス

    カタログ番号 CY11156
    素材 イリジウム, ホウケイ酸塩
    純度 Ir：99.9％以上
    フォーム 基板

    イリジウム(Ir)コーティングガラスは、ガラス基板の表面にイリジウム薄膜をコーティングしたものです。スタンフォード・アドバンスト・マテリアルズ（SAM）では、コーティングの均一性を維持するために、制御された蒸着技術と電子顕微鏡を用いた厳密な表面検査を採用しています。このプロセスにより、汚染を最小限に抑え、半導体プロセスで要求される厳しい材料特性を確実に維持することができます。薄膜の均一性に関するSAM特有の専門知識は、工程内計測によって検証され、ガラス基板の安定した性能を支えています。

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    FAQ

    イリジウム・コーティングは、半導体加工時の光学的挙動にどのような影響を与えるのか？

    イリジウム層は反射率を制御し、ケミカル・アタックに対するバリアを提供する。イリジウム層の均一な成膜は、プロセスの安定性を維持するために非常に重要です。

    ガラス基板へのイリジウム蒸着では、どのようなプロセス管理が必要ですか？

    成膜プロセスでは、温度、圧力、雰囲気ガスの組成を厳密に管理する必要がある。わずかなずれが膜の密着性や均一性に影響し、その後の半導体プロセス工程に影響を与える可能性があります。

    特定の用途に合わせてイリジウム・コーティングの厚さをカスタマイズすることは可能ですか？

    はい、コーティングの厚さは、製造上の正確な要求を満たすために調整することができます。特定のプロセス要件に合わせて光学特性とバリア特性の両方を最適化するカスタム構成も可能です。詳細はお問い合わせください。

    最終推奨

    Lithium Niobate Wafers (LiNbO3 Wafers)
    CY0066 ニオブ酸リチウムウェーハ（LiNbO3ウェーハ）
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    sc/1751898305-NR0103.jpg
    NR0103 窒化ケイ素粉末 (CAS No.12033-89-5)
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    Nano Silicon Nitride (Si3N4) Powder (CAS No. 12033-89-5)
    NN0219 ナノ窒化ケイ素 (Si3N4) 粉末 (CAS No. 12033-89-5)
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    Micro Silicon Nitride (α-Si3N4) Powder (CAS No. 12033-89-5)
    NR0220 マイクロ窒化ケイ素 (α-Si3N4)パウダー (CAS No. 12033-89-5)
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    Micro Silicon Nitride (β-Si3N4) Powder (CAS No. 12033-89-5)
    NR0221 マイクロ窒化ケイ素 (β-Si3N4)パウダー (CAS No. 12033-89-5)
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    Nano Silicon Oxide (SiO2) Powder CAS NO. 7631-86-9
    OX0283 ナノ酸化ケイ素 (SiO2) 粉末 (CAS 番号: 7631-86-9)
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    Micro Silicon Oxide (SiO2) Powder (CAS No.7631-86-9)
    OX0284 マイクロ酸化ケイ素 (SiO2) 粉末 (CAS No.7631-86-9)
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    https://www.samaterials.com/images/sc/1765955766-normal-SC0892-1.jpg
    SC0892 高純度炭化ケイ素粉末（SiC粉末） (CAS No.409-21-2)
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