CY8274 Ti:Sapphire(チタンドープサファイア結晶) 円形両面研磨

Ti:Sapphire(チタンドープサファイア結晶) 円形両面研磨品 解説

当社の高品質チタンサファイアクリスタルは、超高速・高出力レーザーの幅広い用途に最適な、極めて広い波長可変範囲を持つ優れた光学特性を有しています。この円形基板は精密両面研磨が施され、均一な厚み、低い表面粗さ、最小限の散乱損失を保証します。チタン・ドーピングにより顕著な利得特性が付与され、この結晶はフェムト秒パルス発生、分光、および学術・産業両分野における最先端研究に最適です。

厳格な品質管理の下で丁寧に製造された各製品は、厳格な国際規格を満たし、最高の光学性能と信頼性を保証します。信頼性の高い熱伝導性は、化学的および機械的安定性と相まって、要求の厳しいセットアップにおいて永続的な寿命を提供します。高度な研究開発または商業用レーザーシステムのいずれに採用されるかにかかわらず、当社のチタンサファイア結晶は、高度な実験的試みに必要な一貫性と透明性を提供します。

Ti:Sapphire（チタンドープサファイア結晶）円形両面研磨用途

Ti:Sapphire(チタンドープサファイア)結晶は、特に両面研磨された場合、卓越した光学的透明性、熱的安定性、機械的強度を実現し、様々な環境において理想的な結晶となります。その高い損傷しきい値と広い発光範囲は、優れたレーザー出力を可能にし、精密な両面研磨は表面の凹凸を最小限に抑えます。この強力な組み合わせは、産業、研究、商業の場面で多くの可能性を広げ、これらの結晶は高度な光学システムや高性能の計測器において優れた性能を発揮します。

1.産業用途

- 超精密レーザー切断：チタンサファイアの広帯域幅と卓越した熱伝導性は、精密な材料加工のための安定した高出力レーザービームをサポートします。

- ハイエンド光学センサー：チタンサファイア結晶の低い散乱特性と耐久性のある構造により、過酷な製造環境でも信頼性の高い高感度測定が可能。

2.研究用途

- フェムト秒レーザー生成：チタンサファイアの幅広い波長可変性と速い発光速度は、先端研究で使用される超精密パルスの生成に理想的な媒体です。

- 非線形周波数変換：両面研磨により、周波数シフト実験時の収差を低減し、出力信号の明瞭性と効率を高めます。

3.商業用途

- バイオメディカルイメージング：この結晶の幅広い動作範囲は、より正確な医療診断のための高分解能多光子イメージング技術をサポートします。

- 分光装置：研磨されたチタンサファイアは、よりシャープなスペクトル線とS/N比の改善を可能にします。

Ti:Sapphire（チタンドープサファイア結晶）円形両面研磨パッケージング

Ti:Sapphire円形両面研磨結晶は、帯電防止フィルムで裏打ちされた保護発泡容器に梱包されます。真空シールされたポーチは、汚染のない輸送と保管を保証します。安全性を高めるため、結晶は清潔で低湿度の環境に保管し、糸くずの出ない手袋で取り扱ってください。損傷や汚染のリスクをさらに最小化するために、特定の寸法、ラベル付け、または追加の遮蔽で包装をカスタマイズすることができます。

包装真空シール、木箱、またはカスタマイズ。

Ti:Sapphire（チタンドープサファイア結晶）円形両面研磨に関するFAQ

Q1: Ti:Sapphire（チタンドープサファイア結晶）の主な材料特性は何ですか？

A1: チタンサファイアは、優れた光学的透明性、高い屈折率（約1.76）、モース硬度9を有しています。チタンドーピングにより近赤外スペクトル領域で広い波長可変性があり、超高速レーザー用途に理想的です。その高い熱伝導性は、高強度レーザー励起時の熱負荷を管理するのに役立ちます。両面研磨は、結晶の平坦性と平行性をさらに高め、精密レーザーシステムの光伝送性能を向上させます。

Q2: チタンサファイアクリスタル（チタンドープサファイアクリスタル）の円形両面研磨は、どのように取り扱い、保管する必要がありますか？

A2: 研磨面の汚染を防ぐため、取り扱いの際は常に清潔で糸くずの出ない手袋を使用してください。傷がつかないように、発泡スチロールの中敷きや柔らかいパッドを入れた保護容器に入れてください。直射日光や高湿度を避け、安定した温度で、清潔で乾燥した環境に保管してください。定期的にホコリやゴミが付着していないか点検し、必要に応じて適切な溶剤や研磨剤を含まないウェットティッシュで優しくクリーニングしてください。

Q3: Ti:Sapphire（チタンドープサファイア結晶）の円形両面研磨には、どのような品質規格や認証が適用されますか？

A3: 高級チタンサファイア基板は通常、光学部品品質ISO10110に準拠し、MIL-PRF-13830Bスクラッチ＆ディグ仕様に準拠しています。その他の規格として、有害物質規制のためのRoHS指令や、化学物質安全のためのREACH適合があります。メーカーは多くの場合、干渉表面測定や分光透過率データを含む包括的な試験報告書を提供し、結晶が厳しい光学的平坦度、平行度、および全体的な性能要件を満たしていることを保証します。

関連情報

1.材料特性と利点

Ti:Sapphire(チタンドープサファイア結晶)を円形両面研磨処理することにより、非常に滑らかな表面となり、広い波長範囲にわたって光学性能が向上します。この結晶は驚くべき透明性を実現し、高強度の光線を最小限の散乱で通過させます。チタンイオンをドープすると、サファイア格子は光応答性が向上し、精密なビーム制御と安定性が要求される用途に最適です。さらに、サファイアの機械的強度はモース硬度でダイヤモンドのすぐ下にあり、厳しい使用条件下での耐久性を保証します。

円形部品の両表面を入念に研磨することで、均一な厚みを維持し、波面歪みを低減し、優れた光学的透明度を実現します。サファイアの高い熱伝導性とチタンドーピングのユニークな増幅特性の組み合わせは、結晶の性能を損なうことなく効率的な熱放散をサポートします。この機械的堅牢性と最適な光透過率のバランスは、チタンサファイア材料を従来の光学基板と区別する重要な利点の一つです。

2.先端産業への応用

科学研究における革新的なレーザーシステムは、高解像度イメージングや精密な材料加工を可能にする超高速パルスの発生にチタンサファイア結晶を大いに活用しています。円形形状と両面研磨を組み合わせることで、光路が不均一になるリスクを最小限に抑え、ビーム形状の一貫性を高めています。多光子顕微鏡や時間分解分光法のように、ビームの品質に少しでもずれが生じると実験結果が損なわれるような要求の厳しい作業には、このレベルの精度が不可欠です。

幅広い商業・工業分野でも、チタンサファイアのダイナミックな特性が役立っています。さらに、両表面の精密研磨は半導体製造の厳しい要件に合致しており、ウエハー検査や計測業務における結晶の信頼性を高めています。このような先端分野での汎用性は、次世代アプリケーションにおけるチタンサファイアテクノロジーの継続的な重要性を強調しています。