ニッケル単結晶基板 Ni基板 (110), 10x10x1 mm, SSPの説明
ニッケル単結晶基板 Ni Substrate (110), 10x10x1 mm, SSPは、結晶方位が(110)の高純度ニッケル単結晶基板です。10x10mmの表面積と1mmの厚みは、制御された結晶粒構造と最小限の表面欠陥を必要とする実験セットアップへの統合を容易にします。この基板は、厳密なSEMと回折分析を受け、構造精度が保証されており、材料科学や半導体プロセス環境での高度な研究をサポートします。
ニッケル単結晶基板 ニッケル基板(110)、10x10x1 mm、SSP用途
電子・半導体用途
- 半導体ウェハープロセスの基板として使用され、その制御された(110)配向を利用することにより、明確なエピタキシャル層を実現します。
- 薄膜蒸着研究において、層の均一性を評価し、格子不整合を最小限に抑えるために使用されます。
工業材料試験
- 金属膜の正確な分析をサポートする表面粗さ測定システムの校正標準として使用されます。
- 一貫した結晶構造を通して冶金特性を検証するための研究セットアップで頻繁に使用されます。
ニッケル単結晶基板(110)、10x10x1 mm、SSP包装
基板は、機械的衝撃と汚染を軽減するため、静電気防止クッション付き容器に個別に梱包されています。表面特性を維持するため、温度管理された乾燥環境で保管されます。微粒子への暴露を防ぐため、保護材と密封保管オプションが採用されています。特定の取り扱いおよびトレーサビリティ要件に対応するため、特注のラベリングおよび包装構成が可能です。
よくある質問
Q1: 基板上の(110)方位の確認にはどのような方法がありますか?
A1: 表面X線回折と走査型電子顕微鏡を使用して、(110)結晶方位を確認し、格子構造のずれを評価します。これらの技術は、応用研究のために基板の構造均一性に関する定量的データを提供します。
Q2: 汚染を防ぐために、基板はどのように扱えばよいですか?
A2: 帯電防止手袋と工具を使用し、クリーンな環境で基板を扱ってください。表面の完全性を維持するために、専用の保管容器とクリーンルーム・プロトコルを採用することで、空気中の微粒子への暴露を最小限に抑えます。
Q3: 特定の用途向けに基板の寸法を調整することは可能ですか?
A3: 現在のモデルは10x10x1mmで標準化されています。カスタム寸法については、SAMの技術スペシャリストと相談し、研究または生産ニーズに基づくプロセスの修正と実現可能性を評価する必要があります。
追加情報
ニッケル単結晶は、冶金学や半導体プロセスにおける実験的研究に不可欠な、明確な結晶方位を提供します。その一貫した結晶粒構造と表面特性は、様々な加工条件下でのエピタキシャル膜形成と金属挙動の制御研究を容易にします。
単結晶基板の研究は、金属における相転移や表面現象の理解に貢献する。この基礎知識は、成膜技術の向上をサポートし、産業および学術用途の先端材料開発の指針となる。