炭酸カルシウム(CaCO3)結晶10x10x0.5 mm 説明
炭酸カルシウム(CaCO3)結晶10x10x0.5 mmは、制御された寸法と平坦で滑らかな表面を示す加工基板です。10mm×10mmのサイズは、標準的な加工装置との互換性を保証します。0.5mmの厚みは、機械的安定性と組み込みやすさのバランスを提供します。CaCO3の化学的不活性は、デバイスの活性層との相互作用を低減し、さらなる機能性コーティングや材料の中立性が重要なアプリケーションのための安定したベースとして機能します。
炭酸カルシウム(CaCO3)結晶 10x10x0.5 mm 用途
1.エレクトロニクスおよび半導体用途
- 材料の化学的不活性を利用して干渉を最小限に抑えるため、薄膜蒸着システムの支持基板として使用。
- 安定した結晶学的特性により機能の完全性を維持するため、センサーデバイスの絶縁層として使用。
2.産業用途
- 精密測定機器の取り付け面として使用され、均一な構造により平坦性と寸法安定性を確保する。
- 比較材料分析のための非反応性ベースラインを提供するために、品質管理試験セットアップで頻繁に使用される。
炭酸カルシウム(CaCO3)結晶 10x10x0.5 mm パッキング
炭酸カルシウム(CaCO3)結晶基板は、機械的衝撃と汚染を防ぐため、静電気防止クッション付き容器にしっかりと梱包されています。特定の出荷および保管要件に対応するため、コンパートメント化されたセットアップやラベリングオプションなど、包装のカスタマイズが可能です。
よくある質問
Q1: 結晶の均一性は、デバイス・アプリケーションにおける基板の性能にどのように影響しますか?
A1: 結晶寸法の正確な均一性は、アセンブリ時の一貫した処理を保証します。固定された10x10 mmのサイズと0.5 mmの厚みは、デバイスの予測可能な集積化を促進し、多層セットアップにおけるアライメントの問題を最小限に抑えます。
Q2: 製品の平坦性と表面品質を維持するために、どのような加工方法が採用されていますか?
A2: 製造工程では、制御された焼結と機械的研磨技術を採用しています。これらの方法によって表面の凹凸を減らし、高度な加工装置に適した平坦な基板を保証します。
Q3: 結晶基板は、化学反応を起こすことなく他の材料システムと統合できますか?
A3: はい、CaCO3は本質的に不活性であるため、多くの材料との反応性を最小限に抑えることができ、多材料アセンブリにおいて化学的に安定した支持層を必要とする用途に理想的です。
追加情報
炭酸カルシウムは、その安定性と様々な環境条件下での予測可能な挙動により、材料科学において広く使用されている鉱物です。その結晶学的特性に関する研究は、複合材料システムにおいて中性プラットフォームとして機能する基板を開発するための基礎となる。
結晶構造とデバイス性能の相互作用を理解することは非常に重要である。X線回折のような技術による詳細な分析は、微細構造の特性とマクロな性能との相関に役立ち、基板開発や材料統合に携わるエンジニアや研究者に貴重な洞察を提供します。