再結晶炭化ケイ素チューブ OD.20 mm 説明
再結晶炭化ケイ素チューブ OD.20 mmは、熱再結晶によって形成された高純度SiCから構成されています。密度は約2.8g/cm³、外径は20mmで、高温工業プロセス用の厳しい基準を満たしています。その制御された微細構造と一貫した化学組成は、効果的な熱管理を実現し、高温下でも構造的完全性を維持します。この材料の不活性特性は、長時間の使用における化学的相互作用をさらに低減します。
再結晶炭化ケイ素チューブ OD.20 mm 用途
1.産業用加熱装置
- 高温炉の格納管として使用され、その熱安定性と不活性な表面特性を利用して安定した断熱を実現する。
2.半導体プロセス
- 化学蒸着装置の反応室部品として使用され、高純度、寸法精度を生かしたプロセス温度管理が可能。
3.研究所研究
- 管理された高温実験における試験治具として使用され、その一貫した材料組成を利用して、事前に定義された熱環境を確保する。
再結晶炭化ケイ素チューブ外径。20 mm 梱包
機械的衝撃を最小限に抑えるため、クッション性のある静電気防止容器に梱包されています。保管中および輸送中の汚染を防ぐため、防湿包装で密封されている。包装には、管理された環境での適切な取り扱いのための明確なラベルと説明書が含まれています。特定の保管およびロジスティクス要件に対応するため、カスタム包装オプションもご利用いただけます。
よくある質問
Q1: SiCチューブの化学的純度はどのように確認されますか?
A1:蛍光X線分析 (XRF) や二次イオン質量分析 (SIMS) などの方法を用いて純度を確認し、組成が不純物の少ない99%以上の基準を満たしていることを確認します。
Q2: チューブの寸法精度を維持するために、どのような対策がとられていますか?
A2:精密ノギス測定とレーザースキャンをバッチごとに実施し、外径が定められた許容範囲内にあることを保証しています。
Q3: 1650℃以下の急激な温度変化に対する性能は?
A3:チューブは長時間の高温にさらされることを想定して設計されており、本質的な熱安定性を備えていますが、潜在的な構造的ストレスを防ぐため、使用中の急激な温度変化は最小限に抑えられています。
追加情報
炭化ケイ素は、その優れた機械的特性と熱的特性により、高温用途向けの貴重なセラミック材料として認められています。SiCの再結晶化により微細構造が強化され、内部欠陥が減少し、熱応力下での性能が向上します。
先端材料研究において、制御された再結晶プロセスは、一貫した特性を達成するために非常に重要です。詳細な構造解析と試験プロトコルは、要求の厳しい産業環境における材料の挙動を理解することに貢献し、最終的には精密部品への統合をサポートします。