反応結合炭化ケイ素ビーム 80 x 60 mm 説明
反応接合炭化ケイ素ビーム80 x 60 mmは、寸法精度と微細構造の一貫性を保証する反応接合プロセスを使用して、高純度SiCから製造されています。純度92%以上、密度3.0g/cm³のこのビームは、1300℃までの温度で構造的完全性を維持します。80 x 60 mmの正確な寸法は、信頼性の高い耐熱性と機械的安定性を必要とするシステムへの統合を容易にします。この材料固有の化学的不活性は、攻撃的な媒体にさらされやすい環境において価値を高めます。
反応融着炭化ケイ素ビーム 80 x 60 mm 用途
エレクトロニクスおよび半導体用途
- ビームの高温耐性を利用して熱安定性を達成するため、半導体プロセス装置の支持構造として使用されます。
- 高温センサーの部品として使用され、熱サイクル下でも寸法精度を維持し、安定した性能を発揮します。
産業および製造用途
- リアクションボンドSiCの特性を生かし、高熱負荷を維持する炉アセンブリの構造要素として使用されます。
- 熱処理システムで頻繁に使用され、機械的完全性と寸法精度を維持し、プロセスの安定性を促進します。
反応融着炭化ケイ素ビーム 80 x 60 mm 梱包
ビームは、輸送中の機械的衝撃や汚染リスクを軽減するため、発泡スチロールで裏打ちされたクッション性のある帯電防止容器に梱包されています。材料特性を維持するため、温度管理推奨の密閉されたエンクロージャーに保管されます。特定の取り扱い要件に合わせた追加の保護措置やラベル付けを提供する、カスタム梱包オプションもご利用いただけます。
よくある質問
Q1: ビームの寸法の一般的な許容範囲はどのくらいですか?
A1: 反応結合炭化ケイ素ビームは、校正された装置を使用して厳格な寸法検査を受けています。製造工程では、80 x 60 mmの寸法が一貫して指定された範囲内に収まるよう、厳しい公差が維持されます。
Q2: 反応接合プロセスは、材料の性能をどのように向上させますか?
A2: 反応接合プロセスは、微細構造の均一性を向上させ、欠陥を減らします。これにより、熱的・機械的安定性が向上し、1300℃までの高温条件下でもビームが確実に機能するようになります。
Q3: セラミックビームの保管条件は?
A3: 温度管理された清潔な環境で保管することをお勧めします。パッケージは、湿気の侵入や機械的衝撃を防ぐように設計されており、構造的・熱的特性の維持に役立ちます。
追加情報
炭化ケイ素(SiC)は、その優れた熱伝導性と耐熱衝撃性で知られています。反応接合は、反応性ガスまたは液体をプリフォームに浸透させ、強固で相互接続された微細構造を形成します。この変化は、高温環境下で高性能部品を実現する上で極めて重要である。
反応接合SiCは、費用対効果と性能のバランスが取れており、機械的強度と熱管理の両方が要求されるシステムにおいて価値のある材料です。