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ST11168 酸化アルミニウム平面スパッタリングターゲット、Al2O3ターゲット

カタログ番号 ST11168
構成 Al2O3
純度 ≥99.99%
フォーム ターゲット
形状 長方形
寸法 カスタマイズ

酸化アルミニウム平面スパッタリングターゲット、Al2O3ターゲットは、管理された条件下で加工された高純度アルミナを使用して製造されています。 スタンフォード・アドバンスト・マテリアルズ(SAM)は、X線回折と表面形状測定を含む詳細な検査プロトコルを採用し、平坦性と純度を検証しています。製造工程では、組成の一貫性と微細構造の完全性を厳密に監視し、ターゲットがスパッタリング用途の厳しい要件を満たすことを保証します。

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概要
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FAQ

平面構成は、スパッタリング用途における膜の均一性にどのような影響を与えますか?

平面構成は、ターゲットから基板までの距離を一定に保つことで膜の均一性を高める。これにより、成膜速度のばらつきを最小限に抑えることができ、これは半導体や光学デバイスの製造においてコーティングを施す際に非常に重要です。

酸化アルミニウムターゲットにはどのような品質保証方法が適用されるのですか?

ターゲットは、レーザープロフィロメトリーによる寸法検査と蛍光X線による組成分析を受ける。これらの方法により、微細構造と化学組成がスパッタリング用途の厳しい要件を満たしていることが確認されます。詳細はお問い合わせください。

スパッタリングターゲットの寸法を特定の装置用にカスタマイズできますか?

はい、寸法は様々なスパッタリングシステムに適合するようカスタマイズ可能です。カスタマイズにより、成膜装置との適切な統合が保証されるため、プロセス効率と成膜の一貫性が最適化されます。

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