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ST11169 アルミニウムクロムチタンバナジウム平面ターゲット、AlCrTiVターゲット

カタログ番号 ST11169
構成 Al、Cr、Ti、V
純度 ≥99.9%
フォーム ターゲット
形状 長方形
寸法 カスタマイズ

アルミニウムクロムチタンバナジウム平面ターゲット、AlCrTiVターゲットは、スパッタリング用途に特化した制御された合金化プロセスを使用して製造されます。スタンフォード・アドバンスト・マテリアルズ(SAM)は、品質管理において高度な冶金技術と体系的な電子顕微鏡分析を採用することで、専門知識を実証しています。製造工程では、一貫した微細構造と組成の均一性を達成することに重点を置いており、これは研究および産業環境においてスパッタ蒸着の性能を維持するために非常に重要です。

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概要
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FAQ

AlCrTiVターゲットの組成は、成膜の均一性にどのような影響を与えますか?

特定の合金組成は、スパッタリング中の相分離を最小限に抑え、より均一な成膜速度と膜の密着性向上につながる。この一貫性は、厳密な膜厚制御を必要とするプロセスにおいて特に有益です。技術的な詳細についてはお問い合わせください。

ターゲットの寸法は、異なるスパッタリングシステムに適応できますか?

このターゲットは、様々なスパッタリング装置のセットアップに適合するよう、カスタマイズされた寸法で入手可能です。この適応性は、多様な処理要件をサポートし、さまざまな半導体およびコーティングアプリケーションとの互換性を保証します。カスタマイズオプションについてはお問い合わせください。

ターゲットの製造にはどのような品質管理方法が適用されるのか?

製造プロセスには、厳密な組成分析とSEMによる表面検査が含まれ、均一性を確認し、潜在的な欠陥を検出する。これらの対策により、ターゲットは最適なスパッタ性能を発揮するために必要な特性を維持します。詳しくはお問い合わせください。

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